株式会社ニューフレアテクノロジー - 神奈川県横浜市磯子区

  1. TOP
  2. 神奈川県
  3. 横浜市磯子区
  4. 株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジーの基本データ

商号又は名称 株式会社ニューフレアテクノロジー
商号又は名称（フリガナ） -
法人番号 5080101002461
法人種別 株式会社
都道府県 神奈川県
市区町村 横浜市磯子区
郵便番号 〒2350032
登記住所 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番１
最寄り駅 京急本線 杉田駅 徒歩3分以内
登録年月日 2015/10/05
更新年月日 2018/07/20
更新区分 新規
概要 株式会社ニューフレアテクノロジーの法人番号は5080101002461です。
株式会社ニューフレアテクノロジーの法人種別は"株式会社"です。
登記上の所在地は、2018/07/20現在 〒2350032 神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番１ となっています。
"京急本線 杉田駅 徒歩3分以内" が最寄り駅の情報となります。
周辺に4件のカフェ情報 [マクドナルド 新杉田駅店、ドトールコーヒーショップ ビーンズ新杉田店、ヴィ・ド・フランス 新杉田店、サンジェルマン新杉田店] があります。
株式会社ニューフレアテクノロジーは、2015/10/05に法人番号が新規登録されています。
位置情報：神奈川県横浜市磯子区新杉田町８番１
カフェ 株式会社ニューフレアテクノロジー周辺のカフェなど
Powered by ぐるなび

株式会社ニューフレアテクノロジー周辺の天気情報

横浜市磯子区の予測雨量
04/30 14:05現在0（mm/h） 04/30 15:05予測0（mm/h）
神奈川県 横浜 の天気
今日 04月30日(火) 明日 05月01日(水)
曇り  曇り : 最高 24 ℃ 最低  - ℃ 曇のち雨  曇のち雨 : 最高 20 ℃ 最低 18 ℃
　東海道沖には低気圧があって東北東へ進んでおり、前線が日本の南にのびています。 　神奈川県は、曇りで雨の降っている所があります。 　３０日は、前線を伴った低気圧が本州南岸から関東の東へ進み、また、日本海から北海道付近へ進む低気圧からのびる寒冷前線が夜には東日本を通過する見込みです。このため、曇りで昼過ぎまで雨の降る所があるでしょう。 　５月１日は、気圧の谷や湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、曇りで昼過ぎから雨となるでしょう。 　神奈川県の海上では、３０日から５月１日にかけて、多少波がある見込みです。
Powered by お天気Webサービス

株式会社ニューフレアテクノロジーの株式上場データ

マーケット JASDAQ-S
業種 機械
証券コード6256
上場年月日2007年4月25日
決算月3月末日

株式会社ニューフレアテクノロジーの法人詳細データ

代表者名 代表取締役社長　　杉本　茂樹
法人名ふりがな にゅーふれあてくのろじー
資本金 6,486,000,000円
従業員数 711人
企業規模 男性：581人  女性：42人
事業概要 半導体製造装置製造販売

株式会社ニューフレアテクノロジーの大株主の状況

企業名もしくは出資者 出資比率（％）
東芝デバイス＆ストレージ株式会社 50
東芝機械株式会社 15.07
日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社（三井住友信託銀行再信託分・凸版印刷株式会社退職給付信託口） 4.16
バンク　オブ　ニユーヨーク　ジーシーエム　クライアント　アカウント　ジエイピーアールデイ　アイエスジー　エフイー－エイシー（常任代理人株式会社三菱ＵＦＪ銀行） 2.05
ＮＯＲＴＨＥＲＮ ＴＲＵＳＴ ＣＯ．（ＡＶＦＣ） ＲＥ ＨＣＲ００（常任代理人香港上海銀行東京支店カストディ業務部） 1.71
日本トラスティ・サービス信託銀行株式会社（信託口） 1.48
ステート ストリート バンク アンド トラスト カンパニー ５０５１０３（常任代理人株式会社みずほ銀行決済営業部） 1.31
ステート ストリート バンク アンド トラスト カンパニー５０５２２３（常任代理人株式会社みずほ銀行決済営業部） 1.26
ビーエヌワイエム エスエーエヌブイ ビーエヌワイエム ジーシーエム クライアント アカウンツ エム アイエルエム エフイー（常任代理人株式会社三菱ＵＦＪ銀行） 1.11
ブリティッシュ エンパイア トラスト ピーエルシー（常任代理人株式会社みずほ銀行決済営業部） 1

株式会社ニューフレアテクノロジーの経営指標の推移

 当期 第24期（自　2018年４月１日　至　2019年３月31日）
当期（円）
売上高 57,320,845,000
経常利益又は経常損失（△） 11,983,074,000
当期純利益又は当期純損失（△） 8,236,195,000
資本金 6,486,000,000
純資産 72,351,469,000
総資産 100,108,006,000
従業員数 543 人
1期前（円）
売上高 41,163,054,000
経常利益又は経常損失（△） 9,226,586,000
当期純利益又は当期純損失（△） 6,845,757,000
資本金 6,486,000,000
純資産 66,152,784,000
総資産 94,391,614,000
従業員数 525 人
2期前（円）
売上高 47,289,504,000
経常利益又は経常損失（△） 13,342,711,000
当期純利益又は当期純損失（△） 9,701,296,000
資本金 6,486,000,000
純資産 60,746,025,000
総資産 82,364,261,000
従業員数 536 人
3期前（円）
売上高 43,894,138,000
経常利益又は経常損失（△） 12,851,021,000
当期純利益又は当期純損失（△） 9,251,252,000
資本金 6,486,000,000
純資産 52,545,025,000
総資産 74,820,603,000
従業員数 507 人
4期前（円）
売上高 42,455,650,000
経常利益又は経常損失（△） 12,190,785,000
当期純利益又は当期純損失（△） 9,422,777,000
資本金 6,486,000,000
純資産 44,794,141,000
総資産 65,978,537,000
従業員数 510 人

株式会社ニューフレアテクノロジーの職場データ

平均勤続年数（男女） 男性：10年 女性：10年

株式会社ニューフレアテクノロジーの特許情報  404件

出願年月日 出願番号 特許分類 タイトル
2022/10/20 2022022684 意匠 サセプタ
2022/10/20 2022022686 意匠 サセプタ用カバーベース
2022/10/20 2022022682 意匠 サセプタカバー
2022/10/20 2022022683 意匠 半導体ウェハ及びサセプタ加熱用ヒータ
2022/10/20 2022022685 意匠 サセプタ
2022/2/18 2022003102 意匠 半導体製造装置用トラップの部品
2021/10/22 2021022981 意匠 サセプタリング
2021/10/22 2021022982 意匠 サセプタカバー
2021/8/18 2021017778 意匠 リフレクタ
2021/5/25 2021011039 意匠 トッププレート
2021/3/12 2021005051 意匠 リフレクタ
2020/12/10 2020026580 意匠 トッププレート
2020/12/10 2020026581 意匠 カバーリング
2020/4/22 2021518340 特許 気相成長方法及び気相成長装置
2020/4/8 2021514909 特許 ＳｉＣエピタキシャル成長装置
2019/11/12 2019204800 特許 半導体装置
2019/8/20 2019150243 特許 荷電粒子ビーム装置および真空用配管
2019/7/25 2019137072 特許 マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置
2019/7/11 2019129422 特許 マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置
2019/7/8 2019127076 特許 検査装置及び検査方法
2019/7/2 2019123994 特許 マルチ荷電粒子ビーム画像取得装置およびマルチ荷電粒子ビーム画像取得方法
2019/6/28 2019121985 特許 マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム画像取得方法
2019/6/18 2019112525 特許 マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射方法、及びマルチ電子ビーム検査装置
2019/6/14 2019111319 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2019/6/14 2019111579 特許 マルチビーム検査装置
2019/6/14 2019111580 特許 検査装置
2019/5/8 2019088439 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2019/5/8 2019088437 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2019/4/22 2019081222 特許 マルチ電子ビーム偏向器及びマルチビーム画像取得装置
2019/4/16 2019077792 特許 荷電粒子発生装置
2019/4/11 2019075739 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2019/4/9 2019074110 特許 荷電粒子ビーム描画装置及びアパーチャ
2019/4/9 2019074272 特許 ステージ装置
2019/3/6 2019041027 特許 マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法
2019/3/1 2019037984 特許 気相成長装置
2019/2/27 2019034559 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2019/2/18 2019026163 特許 マルチ電子ビーム検出器、マルチ電子ビーム検出器の製造方法、及びマルチ電子ビーム検査装置
2019/2/14 2019024764 特許 描画装置および描画方法
2019/2/12 2019022938 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2019/2/8 2019021742 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2019/1/31 2019015460 特許 試料検査装置及び試料検査方法
2019/1/24 2019010353 特許 荷電粒子ビーム描画装置
2019/1/22 2019008202 特許 マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム照射方法
2019/1/18 2019007370 特許 マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム照射方法
2018/12/27 2018245587 特許 観察または測定装置、及び、観察または測定方法
2018/12/7 2018229825 特許 連続成膜方法、連続成膜装置、サセプタユニット、及びサセプタユニットに用いられるスペーサセット
2018/12/4 2018227658 特許 マルチ電子ビーム検査装置
2018/12/4 2018227659 特許 検査装置
2018/11/29 2018223798 特許 セトリング時間の取得方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/11/19 2018216474 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2018/11/15 2018214574 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2018/11/15 2018214428 特許 マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法
2018/11/9 2018211261 特許 気相成長装置
2018/10/30 2018204059 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/10/25 2018200897 特許 マルチビームの個別ビーム検出器、マルチビーム照射装置、及びマルチビームの個別ビーム検出方法
2018/10/15 2018194505 特許 描画データ生成方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2018/10/12 2018193816 特許 電子銃及び電子線装置
2018/10/11 2018192684 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/10/1 2018186473 特許 荷電粒子ビーム装置
2018/10/1 2018186348 特許 検査方法および検査装置
2018/9/28 2018184856 特許 パターン検査装置及び参照画像の作成方法
2018/9/26 2018180819 特許 検査方法および検査装置
2018/9/19 2018175432 特許 半導体装置
2018/9/18 2018173891 特許 マスク検査装置及びマスク検査方法
2018/9/3 2018164862 特許 荷電粒子装置
2018/8/31 2018163839 特許 異常判定方法および描画装置
2018/8/29 2018160592 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/8/10 2018151710 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/8/8 2019539147 特許 気相成長装置、及び、気相成長方法
2018/8/3 2018147234 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/8/2 2018146121 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/7/27 2018141419 特許 検査装置
2018/7/18 2018135232 特許 描画データ生成方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2018/7/6 2018129251 特許 照射量補正量の取得方法、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置
2018/6/27 2018122081 特許 荷電粒子ビーム画像取得装置
2018/6/21 2018117896 特許 ドライ洗浄装置及び、そのドライ洗浄方法
2018/6/20 2018117267 特許 気相成長装置
2018/6/8 2018110463 特許 データ処理方法、データ処理装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2018/6/5 2018107830 特許 クリーニング装置
2018/6/4 2018107009 特許 真空装置
2018/6/1 2018106526 特許 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法
2018/5/31 2018105030 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法
2018/5/28 2018101372 特許 ケーブル固定具及びケーブル固定具を備える移動ステージ装置
2018/5/24 2018099831 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置、マルチ荷電粒子ビーム描画装置用ブランキングアパーチャアレイ、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の運用方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/5/24 2018099312 特許 マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム光学系の位置決め方法
2018/5/22 2018098297 特許 マルチ荷電粒子ビーム検査装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査方法
2018/5/22 2018098298 特許 電子ビーム照射方法、電子ビーム照射装置、及びプログラム
2018/5/16 2018094858 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/5/15 2018093885 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/4/25 2018084213 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/4/12 2018076787 特許 パターン検査装置
2018/3/29 2018064445 特許 荷電粒子ビーム照射装置
2018/3/29 2018063857 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2018/3/29 2018063810 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2018/3/28 2018062471 特許 アパーチャ部材及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2018/3/8 2018042048 特許 検査装置、検査方法、及びプログラム
2018/3/6 2018040165 特許 パターン検査方法及びパターン検査装置
2018/3/6 2018039615 特許 電子ビーム検査装置及び電子ビーム走査のスキャン順序取得方法
2018/3/1 2018036075 特許 可変成形型荷電粒子ビーム照射装置及び可変成形型荷電粒子ビーム照射方法
2018/3/1 2018036381 特許 気相成長方法
2018/2/21 2018028553 特許 荷電粒子ビーム検査方法
2018/2/8 2018021350 特許 検査装置および検査方法
2018/1/31 2018015846 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2018/1/16 2018005160 特許 成膜装置および成膜方法
2018/1/11 2018002957 特許 マルチビーム検査装置
2018/1/10 2018001782 特許 アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2017/12/26 2017249436 特許 荷電粒子ビーム描画装置
2017/12/22 2017245903 特許 マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法
2017/12/21 2017244773 特許 カソード
2017/12/15 2017240731 特許 半導体装置の製造方法
2017/12/14 2017239397 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2017/12/14 2017239396 特許 マルチビーム用アパーチャセット
2017/12/7 2017235482 特許 カソード形成方法
2017/11/10 2017217013 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2017/11/2 2017212783 特許 集塵装置
2017/11/2 2017213139 特許 パターン検査方法およびパターン検査装置
2017/10/27 2017208463 特許 描画装置およびその制御方法
2017/10/25 2017206280 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置
2017/10/20 2017203668 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2017/10/20 2017203667 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2017/9/29 2017190882 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/9/28 2017187690 特許 電子ビーム画像取得装置および電子ビーム画像取得方法
2017/9/28 2017188995 特許 検査方法および検査装置
2017/9/21 2017181808 特許 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの位置ずれ補正方法
2017/9/21 2017181809 特許 電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法
2017/9/20 2017180067 特許 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置
2017/9/13 2017175848 特許 荷電粒子ビーム描画装置及びブランキング回路の故障診断方法
2017/9/11 2017174119 特許 荷電粒子装置、荷電粒子描画装置および荷電粒子ビーム制御方法
2017/9/11 2017173834 特許 半導体装置及びその製造方法
2017/8/30 2017165423 特許 気相成長方法
2017/8/25 2017162076 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2017/8/10 2017155470 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置
2017/8/10 2017155374 特許 画像取得装置の光学系調整方法
2017/8/4 2017151690 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/8/2 2017149854 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/7/28 2017146953 特許 検査装置
2017/7/28 2017146751 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/7/18 2017138883 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2017/7/18 2017139347 特許 パターン検査方法およびパターン検査装置
2017/7/11 2017135506 特許 マルチビーム検査用アパーチャ、マルチビーム用ビーム検査装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2017/6/29 2017127431 特許 導通接点針
2017/6/22 2017121996 特許 半導体装置
2017/6/19 2017119850 特許 偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法
2017/6/14 2017116910 特許 データ処理方法、荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画システム
2017/6/7 2017112753 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法
2017/6/6 2017111983 特許 検査方法および検査装置
2017/6/2 2017110175 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/5/30 2017106588 特許 描画装置および描画方法
2017/5/30 2017106795 特許 気相成長装置及び気相成長方法
2017/5/25 2017103778 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2017/5/23 2017101451 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2017/4/21 2017084618 特許 検査方法
2017/4/19 2017082861 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2017/4/6 2017076216 特許 成長速度測定装置および成長速度検出方法
2017/3/30 2017067617 特許 電子ビーム照射装置及び電子ビームのダイナミックフォーカス調整方法
2017/3/15 2017050094 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2017/3/9 2017044533 特許 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置
2017/3/8 2017043971 特許 マップ作成方法、マスク検査方法およびマスク検査装置
2017/2/24 2017033439 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法
2017/2/22 2017031347 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法およびマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2017/2/2 2017009938 商標 ＭＢＭ
2017/1/26 2017012459 特許 ステージ機構の位置補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2016/12/28 2016255362 特許 マルチビーム用アパーチャセット及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2016/12/22 2016249229 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2016/12/13 2016241426 特許 ブランキングアパーチャアレイ装置および荷電粒子ビーム描画装置
2016/12/8 2016238500 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置
2016/12/8 2016238499 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2016/12/8 2016238803 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光装置およびマルチ荷電粒子ビーム露光方法
2016/12/7 2016137683 商標 §ＮＵＦＬＡＲＥ
2016/12/6 2016236419 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/12/6 2016236860 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法
2016/12/6 2016236420 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/11/16 2016223561 特許 成膜装置
2016/11/16 2016223573 特許 成膜装置
2016/11/9 2016218841 特許 マルチビーム光学系の調整方法
2016/11/7 2016217151 特許 パターン検査方法及びパターン検査装置
2016/10/31 2016213499 特許 成膜装置および成膜方法
2016/10/28 2016211750 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/10/26 2016209573 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/10/26 2016209987 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2016/10/26 2016209897 特許 検査装置および変位量検出方法
2016/10/26 2016209664 特許 偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法
2016/10/25 2016208600 特許 気相成長装置、環状ホルダ、及び、気相成長方法
2016/10/18 2016204503 特許 マルチビーム焦点調整方法およびマルチビーム焦点測定方法
2016/10/13 2016201835 特許 荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2016/10/11 2016200163 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/9/26 2016186687 特許 成膜装置及び成膜方法
2016/9/26 2016186897 特許 基板処理装置、搬送方法およびサセプタ
2016/9/26 2016187520 特許 気相成長速度測定装置、気相成長装置および成長速度検出方法
2016/9/14 2016179664 特許 成膜装置、および成膜方法
2016/9/9 2016176933 特許 ブランキングアパーチャアレイ装置、荷電粒子ビーム描画装置、および電極テスト方法
2016/9/5 2016172750 特許 評価方法、補正方法、プログラム、及び電子線描画装置
2016/9/1 2016171047 特許 描画データの作成方法
2016/8/29 2016167132 特許 気相成長方法
2016/8/25 2016165061 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光装置
2016/8/24 2016163389 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/8/19 2016161276 特許 マスク検査方法
2016/7/29 2016150037 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2016/7/29 2016149640 特許 クリーニング装置およびクリーニング方法
2016/7/27 2016146962 特許 荷電粒子ビーム検査装置及び荷電粒子ビーム検査方法
2016/7/25 2016145619 特許 電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法
2016/7/19 2016141737 特許 パターン検査装置
2016/7/12 2016137692 特許 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法
2016/7/4 2016132690 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2016/7/1 2016131993 特許 合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法
2016/6/23 2016124870 特許 伝熱板および描画装置
2016/6/17 2016066103 商標 §ＮＵＦＬＡＲＥ∞ＮＦＴｂｏｏｋ
2016/6/9 2016115479 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法
2016/6/3 2016112085 特許 検査方法
2016/6/3 2016112198 特許 検査方法
2016/6/3 2016111997 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置
2016/6/1 2016110057 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2016/5/31 2016108726 特許 マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置
2016/4/28 2016091388 特許 パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置
2016/4/28 2016090747 特許 パターン検査方法及びパターン検査装置
2016/4/28 2016090845 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/4/26 2016088431 特許 マルチ荷電粒子ビーム照射装置、マルチ荷電粒子ビームの照射方法及びマルチ荷電粒子ビームの調整方法
2016/4/21 2016085369 特許 荷電粒子ビーム装置
2016/4/19 2016083411 特許 シャワープレート、気相成長装置及び気相成長方法
2016/4/18 2016083002 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2016/4/15 2016081880 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビームのブランキング装置
2016/3/25 2016062227 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2016/3/8 2016044092 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2016/3/1 2016039270 特許 成膜装置
2016/2/23 2016032156 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/2/23 2016032249 特許 診断方法、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム
2016/2/22 2016031170 特許 検査装置及び検査方法
2016/2/9 2016022951 特許 荷電粒子ビーム描画装置
2016/1/29 2016016125 特許 ヒータおよびこれを用いた半導体製造装置
2016/1/19 2016008017 特許 マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置
2016/1/18 2016007206 特許 パターン検査装置
2016/1/18 2016007308 特許 マスク検査方法およびマスク検査装置
2016/1/18 2016007329 特許 マスク検査方法およびマスク検査装置
2016/1/8 2016002676 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2016/1/5 2016000563 特許 描画データ作成方法
2015/12/22 2015249309 特許 マルチ荷電粒子ビーム装置
2015/12/10 2015241287 特許 データ処理方法、データ処理プログラム、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置
2015/11/25 2015229833 特許 アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/11/18 2015225453 特許 荷電粒子ビームの照射量補正用パラメータの取得方法、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置
2015/11/6 2015218287 特許 偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、及び偏光イメージ取得方法
2015/11/5 2015217962 特許 検査装置および検査方法
2015/11/5 2015217593 特許 シャワープレート、気相成長装置および気相成長方法
2015/11/2 2015216089 特許 パターン検査装置
2015/10/28 2015211998 特許 パターン検査方法及びパターン検査装置
2015/10/27 2015211020 特許 温度測定マスクおよび温度測定方法
2015/10/27 2015211244 特許 検査方法および検査装置
2015/10/20 2015206464 特許 支持ケース及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/10/8 2015200418 特許 ステージ装置および荷電粒子ビーム描画装置
2015/10/5 2015197623 特許 検査装置および検査方法
2015/10/2 2015196919 特許 位置ずれ検出装置、気相成長装置および位置ずれ検出方法
2015/10/1 2015196137 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/9/14 2015180370 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/9/1 2015171781 特許 オゾン供給装置、オゾン供給方法、荷電粒子ビーム描画システム、および荷電粒子ビーム描画方法
2015/8/28 2015168860 特許 気相成長装置及び気相成長方法
2015/8/28 2019153867 特許 気相成長装置及び気相成長方法
2015/8/27 2015167674 特許 マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置の検査方法
2015/8/27 2015167673 特許 マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びマルチ荷電粒子ビームの不良ビーム遮蔽方法
2015/8/11 2015158747 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2015/7/31 2019205554 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2015/7/31 2015151655 特許 パターン検査装置及びパターン検査方法
2015/7/28 2015148735 特許 電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置
2015/7/28 2015148976 特許 マルチ荷電粒子ビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/7/16 2015142262 特許 描画データ作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2015/7/16 2015142257 特許 描画データの作成方法
2015/7/10 2015138853 特許 データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法
2015/7/6 2015135407 特許 気相成長方法および気相成長装置
2015/6/15 2015120206 特許 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2015/6/15 2015120548 特許 検査方法およびテンプレート
2015/5/27 2019142543 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2015/5/19 2015101953 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/5/13 2015097891 特許 荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/4/28 2015091846 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2015/4/21 2015087042 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/4/20 2015086014 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/4/20 2015086013 特許 ビームドリフト量の測定方法
2015/4/17 2015085085 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/4/10 2015081146 特許 気相成長方法
2015/4/10 2015081147 特許 気相成長方法
2015/4/10 2015080824 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/4/1 2015075454 特許 検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法
2015/4/1 2015075259 特許 検査方法および検査装置
2015/3/31 2015073512 特許 撮像装置、検査装置および検査方法
2015/3/26 2015064281 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2015/3/20 2018196856 特許 曲率測定装置及び曲率測定方法
2015/3/20 2015058132 特許 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置の調整方法
2015/3/20 2015057144 特許 曲率測定装置及び曲率測定方法
2015/3/16 2015005626 意匠 加熱器
2015/3/12 2015049580 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2015/3/9 2015046478 特許 検査装置
2015/2/25 2015035796 特許 線幅誤差取得方法、線幅誤差取得装置および検査システム
2015/1/21 2015009641 特許 エネルギービーム描画装置の描画データ作成方法
2015/1/19 2015008109 特許 欠陥検査装置
2015/1/19 2015007880 特許 マルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2015/1/19 2015007879 特許 パターン検査方法
2015/1/8 2015002623 特許 検査方法
2014/12/22 2014259469 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2014/12/19 2014257024 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2014/12/18 2014255808 特許 気相成長装置および気相成長方法
2014/12/17 2014254658 特許 気相成長装置及び気相成長方法
2014/12/15 2014252961 特許 検査方法および検査装置
2014/12/2 2014244000 特許 マルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置、及びマルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置の製造方法
2014/11/28 2014240857 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2014/11/20 2014235901 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2014/11/7 2014227547 特許 気相成長装置、貯留容器および気相成長方法
2014/11/7 2014227546 特許 気相成長装置および気相成長方法
2014/11/7 2014227431 特許 気相成長方法および気相成長装置
2014/10/21 2014214314 特許 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2014/10/20 2014213906 特許 放射温度計及び温度測定方法
2014/10/8 2014207255 特許 基板カバー
2014/10/8 2019084261 特許 描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置
2014/10/3 2014204873 特許 ブランキングアパーチャアレイ及び荷電粒子ビーム描画装置
2014/10/1 2014203185 特許 半導体製造装置
2014/9/29 2014081798 商標 ＮｕＦｌａｒｅ，　Ｂｅｙｏｎｄ　Ｔｈｅ　Ｌｅａｄｉｎｇ　Ｅｄｇｅ
2014/9/24 2014193431 特許 基板処理装置
2014/9/19 2014191659 特許 マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2014/9/10 2014184658 特許 試料高さ検出装置およびパターン検査システム
2014/9/4 2014180693 特許 検査方法
2014/9/3 2014179657 特許 電子銃装置
2014/8/25 2014170659 特許 異常検出方法及び電子線描画装置
2014/8/25 2014171011 特許 撮像装置、検査装置および検査方法
2014/8/22 2014169665 特許 アパーチャ部材製造方法
2014/8/8 2014162396 特許 マスク検査装置及びマスク検査方法
2014/7/31 2014156999 特許 気相成長装置および気相成長方法
2014/7/24 2014150763 特許 成膜装置、サセプタ、及び成膜方法
2014/7/16 2014146352 特許 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法
2014/7/15 2014145114 特許 マスク検査装置及びマスク検査方法
2014/6/26 2014131938 特許 マスク検査装置、マスク評価方法及びマスク評価システム
2014/6/26 2014131516 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び方法
2014/6/6 2014118180 特許 検査方法
2014/6/6 2014117454 特許 マスク検査装置及びマスク検査方法
2014/6/3 2014114526 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2014/5/12 2014099012 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームのドーズ量異常検出方法
2014/5/12 2014098901 特許 気相成長方法及び気相成長装置
2014/4/30 2014093924 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2014/4/16 2014085050 特許 電子ビーム描画装置、及び電子ビームの収束半角調整方法
2014/4/16 2014084467 特許 サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート
2014/4/15 2014083477 特許 マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置
2014/3/27 2014066700 特許 成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット
2014/3/26 2014064628 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2014/3/20 2014059155 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの照射量変調係数の取得方法
2014/3/19 2014056400 特許 荷電粒子ビームのドリフト補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置
2014/3/18 2014055338 特許 偏向器用クリーニング装置及び偏向器のクリーニング方法
2014/3/4 2014041814 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置
2014/2/13 2014025787 特許 セトリング時間の取得方法
2014/2/3 2014018263 特許 照明装置及びパターン検査装置
2014/1/30 2014016203 特許 検査装置
2014/1/23 2014010839 特許 焦点位置調整方法および検査方法
2014/1/22 2014009591 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2014/1/16 2014006241 特許 露光用マスクの製造方法、露光用マスクの製造システム、及び半導体装置の製造方法
2013/12/9 2013254300 特許 試料支持装置
2013/12/4 2013250843 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2013/11/20 2013090953 商標 ＥＰＩＲＥＶＯ
2013/11/12 2013233821 特許 マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2013/11/12 2018097442 特許 描画データの作成方法
2013/11/6 2013230593 特許 計測装置
2013/11/6 2013230592 特許 計測装置
2013/10/11 2013214123 特許 マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置
2013/10/2 2013207534 特許 成膜装置及び成膜方法
2013/10/2 2013207430 特許 半導体製造装置および半導体製造方法
2013/9/18 2013193517 特許 検査方法および検査装置
2013/9/2 2013181215 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2013/8/30 2013180622 特許 検査装置および検査方法
2013/8/22 2013172358 特許 熱陰極、電子放射装置、及び熱陰極の製造方法
2013/8/9 2013165885 特許 荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム描画装置
2013/8/8 2013165494 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2013/8/8 2013165493 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
2013/7/10 2013144461 特許 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
2013/7/8 2013142616 特許 気相成長装置および気相成長方法
2013/7/8 2013142617 特許 気相成長装置および気相成長方法
2013/7/2 2013139086 特許 気相成長装置および気相成長方法
2013/6/21 2013130836 特許 炭化珪素半導体成膜装置およびそれを用いた成膜方法
2013/6/13 2013124848 特許 気相成長装置および気相成長方法
2013/6/13 2013124437 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2013/6/13 2013124435 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2013/6/13 2013124847 特許 気相成長装置
2013/6/10 2013121717 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2013/5/22 2013107837 特許 検査感度評価方法
2013/5/22 2013107645 特許 焦点位置調整方法および検査方法
2013/4/30 2013095032 特許 荷電粒子ビーム描画装置、フォーマット検査装置及びフォーマット検査方法
2013/4/26 2013093686 特許 荷電粒子ビーム描画装置
2013/4/26 2013094044 特許 検査装置
2013/4/24 2013091143 特許 荷電粒子ビーム描画方法
2013/4/16 2013086107 特許 検査装置および検査方法
2013/4/12 2013084256 特許 検査方法および検査装置
2013/4/8 2013080796 特許 照明装置および検査装置
2013/4/1 2013075922 特許 検査方法および検査装置
2013/3/25 2013062150 特許 成膜装置および成膜方法
2013/3/21 2013058125 特許 セトリング時間の取得方法
2013/3/13 2013050927 特許 マルチビームの電流調整方法
2013/3/8 2013047092 特許 マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置
2013/3/8 2013047094 特許 電子銃装置、描画装置、電子銃電源回路のリーク電流測定方法、及び電子銃電源回路のリーク電流判定方法
2013/3/4 2013042248 特許 炭化珪素の成膜装置および炭化珪素の成膜方法
2013/2/26 2013036257 特許 カソードの動作温度調整方法、及び描画装置
2013/2/25 2013034498 特許 パターン検査方法及びパターン検査装置
2013/2/21 2013032269 特許 電子線描画装置の故障診断方法、電子線描画装置
2013/2/18 2013028504 特許 荷電粒子ビーム描画装置、及びバッファメモリのデータ格納方法
2013/2/18 2013028505 特許 荷電粒子ビーム描画装置、および荷電粒子ビーム描画方法
2013/2/18 2013029453 特許 検査方法および検査装置
2013/2/15 2013027410 特許 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法
2013/1/30 2013016015 特許 気相成長装置および気相成長方法
2013/1/18 2013007820 特許 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置
2013/1/18 2013007682 特許 荷電粒子ビーム描画装置、試料面へのビーム入射角調整方法、および荷電粒子ビーム描画方法
2013/1/18 2013007793 特許 検査装置
2013/1/17 2013006162 特許 検査方法

株式会社ニューフレアテクノロジーの政府表彰履歴

  • 厚生労働省   
    両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表
近隣（神奈川県横浜市磯子区）の法人情報
  • 株式会社愛美
    株式会社愛美の所在地は神奈川県横浜市磯子区岡村６丁目１５番１号で、2017-07-28に法人番号：9020001122353が指定されました。
  • 有限会社カサイ企画事務所
    有限会社カサイ企画事務所の所在地は神奈川県横浜市磯子区杉田１丁目１７番地１号プララ杉田３０７号で、2015-10-05に法人番号：1020002016322が指定されました。
  • 株式会社いろは
    株式会社いろはの所在地は神奈川県横浜市磯子区中原２丁目１４番１４号で、2019-10-31に法人番号：2020001133415が指定されました。
  • 栄康貿易株式会社
    栄康貿易株式会社の所在地は神奈川県横浜市磯子区磯子３丁目１３番Ｌ－６０３号で、2015-10-05に法人番号：3040001023662が指定されました。
  • 日本パワー合同会社
    日本パワー合同会社の所在地は神奈川県横浜市磯子区森２丁目１５番３７号で、2015-10-05に法人番号：5010503004392が指定されました。
  • 有限会社ケイユー建設
    有限会社ケイユー建設の所在地は神奈川県横浜市磯子区岡村３丁目９番７号で、2015-10-05に法人番号：5020002078482が指定されました。
  • ＶＩＳＡ行政書士法人
    ＶＩＳＡ行政書士法人の所在地は神奈川県横浜市磯子区久木町２０番４号で、2018-01-25に法人番号：4020005013479が指定されました。
  • 株式会社ＨＯＲＩＺＯＮＮＥＣＴ
    株式会社ＨＯＲＩＺＯＮＮＥＣＴの所在地は神奈川県横浜市磯子区磯子７丁目２３番１１号で、2015-10-05に法人番号：1020001105200が指定されました。
  • 合同会社ｋｍｚ
    合同会社ｋｍｚの所在地は神奈川県横浜市磯子区磯子３丁目４番２９－２０３号で、2017-12-14に法人番号：3020003013647が指定されました。
  • 合同会社あいかん社
    合同会社あいかん社の所在地は神奈川県横浜市磯子区下町２番２１号で、2017-10-04に法人番号：9020003013369が指定されました。
  •  近隣（神奈川県横浜市磯子区）の法人情報をもっと見る
法人検索
神奈川県の登記新設・閉鎖法人
法人一覧表示
4月26日 に新設された神奈川県の法人
4月の神奈川県法人アクセスランキング
PAGE TOP ▲