東京応化工業株式会社 - 神奈川県川崎市中原区

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東京応化工業株式会社の基本データ

商号又は名称 東京応化工業株式会社
商号又は名称（フリガナ） トウキョウオウカコウギョウ
法人番号 3020001069823
法人種別 株式会社
都道府県 神奈川県
市区町村 川崎市中原区
郵便番号 〒2110012
登記住所 神奈川県川崎市中原区中丸子１５０番地
最寄り駅 JR南武線ほか 武蔵小杉駅 0.6km 徒歩7分以上
登録年月日 2023/04/12
更新年月日 2023/05/09
更新区分 吸収合併
更新事由 令和５年４月１日埼玉県熊谷市御稜威ケ原上林８２３番地８熊谷応化株式会社（2030001084632）を合併
概要 東京応化工業株式会社の法人番号は3020001069823です。
東京応化工業株式会社の法人種別は"株式会社"です。
商号又は名称のヨミガナはトウキョウオウカコウギョウ です。
登記上の所在地は、2023/05/09現在 〒2110012 神奈川県川崎市中原区中丸子１５０番地 となっています。
"JR南武線ほか 武蔵小杉駅 0.6km 徒歩7分以上" が最寄り駅の情報となります。
位置情報：神奈川県川崎市中原区中丸子１５０番地

東京応化工業株式会社周辺の天気情報

川崎市中原区の予測雨量
04/23 22:00現在0（mm/h） 04/23 23:00予測0（mm/h）
神奈川県 横浜 の天気
今日 04月23日(火) 明日 04月24日(水)
曇り  曇り : 最高 21 ℃ 最低  - ℃ 雨  雨 : 最高 18 ℃ 最低 15 ℃
　オホーツク海に中心を持つ高気圧が本州付近に張り出し、関東甲信地方は湿った空気の影響を受けています。 　神奈川県は、曇りとなっています。 　２３日は、湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、曇りで夜遅くは雨の降る所があるでしょう。 　２４日は、前線を伴った低気圧が本州の南岸を東北東へ進む見込みです。このため、雨となるでしょう。 　神奈川県の海上では、２３日は多少波があるでしょう。２４日は波がやや高い見込みです。
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変更履歴

  • 2019-04-01  [ 吸収合併 ]
    平成３１年４月１日神奈川県高座郡寒川町一之宮七丁目８番１６号ティーオーケーテクノサービス株式会社（9021001006406）を合併
  • 2015-10-05  [ 新規 ]
    東京応化工業株式会社［神奈川県川崎市中原区中丸子１５０番地］の法人番号が新規登録されました。

東京応化工業株式会社の株式上場データ

マーケット 東証一部
業種 化学
証券コード4186
上場年月日1986年7月30日
決算月3月末日

東京応化工業株式会社の法人詳細データ

代表者名 取締役社長　　種市　順昭
法人名ふりがな とうきょうおうかこうぎょう
資本金 14,640,000,000円
従業員数 1,462人
企業規模 男性：1,262人  女性：200人
事業概要 半導体・ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売
企業ホームページ  https://www.tok.co.jp/csr/employees/rights.html

東京応化工業株式会社の大株主の状況

企業名もしくは出資者 出資比率（％）
日本マスタートラスト信託銀行株式会社（信託口） 13.98
株式会社日本カストディ銀行（信託口） 6.72
明治安田生命保険相互会社 （常任代理人　株式会社日本カストディ銀行） 4.51
BNYM AS AGT/CLTS NON TREATY JASDEC （常任代理人　株式会社三菱UFJ銀行） 3.78
株式会社三菱UFJ銀行 2.98
株式会社横浜銀行 （常任代理人　株式会社日本カストディ銀行） 2.54
公益財団法人東京応化科学技術振興財団 2.43
三菱UFJ信託銀行株式会社 （常任代理人　日本マスタートラスト信託銀行株式会社） 2.36
三菱UFJキャピタル株式会社 2.13
東京海上日動火災保険株式会社 2.12

東京応化工業株式会社の経営指標の推移

 当期 第94期 (自　2023年１月１日　至　2023年12月31日)
当期（円）
売上高 91,349,000,000
経常利益又は経常損失（△） 13,335,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 10,297,000,000
資本金 14,640,000,000
純資産 145,750,000,000
総資産 181,967,000,000
従業員数 1,355 人
1期前（円）
売上高 99,617,000,000
経常利益又は経常損失（△） 20,363,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 15,819,000,000
資本金 14,640,000,000
純資産 137,292,000,000
総資産 175,185,000,000
従業員数 1,346 人
2期前（円）
売上高 84,327,000,000
経常利益又は経常損失（△） 16,401,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 16,987,000,000
資本金 14,640,000,000
純資産 129,395,000,000
総資産 164,548,000,000
従業員数 1,261 人
3期前（円）
売上高 71,796,000,000
経常利益又は経常損失（△） 8,797,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 6,553,000,000
資本金 14,640,000,000
純資産 129,394,000,000
総資産 158,536,000,000
従業員数 1,244 人
4期前（円）
売上高 63,494,000,000
経常利益又は経常損失（△） 5,252,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 3,969,000,000
資本金 14,640,000,000
純資産 125,495,000,000
総資産 151,097,000,000
従業員数 1,231 人

東京応化工業株式会社の職場データ

平均勤続年数（男女） 男性：19年 女性：9年
労働者に占める女性労働者の割合 15%
管理職全体人数（男女計） 261人
女性管理職人数 9人
役員全体人数（男女計） 10人
女性役員人数 1人

東京応化工業株式会社の特許情報  798件

出願年月日 出願番号 特許分類 タイトル
2022/4/20 2022069669 特許 光硬化性組成物
2022/3/31 2022037276 商標 Ｆｌｕｉｄ　Ｃｉｒｃｕｉｔ　Ｄｒｉｖｉｎｇ　Ｓｔａｔｉｏｎ
2021/12/27 2021213455 特許 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
2021/12/14 2021202511 特許 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法
2021/12/14 2021202506 特許 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法
2021/11/30 2021026362 意匠 細胞観察用容器
2021/11/30 2021026364 意匠 細胞観察用容器
2021/11/30 2021026363 意匠 細胞観察用容器
2021/9/22 2021154868 特許 組成物、及び感光性組成物
2021/9/22 2021154894 特許 組成物、及び感光性組成物
2021/7/26 2021121790 特許 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法
2021/3/26 2021036313 商標 Ｆｌｕｉｄ３Ｄ－Ｘ
2021/3/16 2021030860 商標 ＳＰＲＡ
2020/12/16 2020208263 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2020/12/4 2020150490 商標 ＴＬＡＬ
2020/11/19 2020192768 特許 中空パッケージの製造方法及び感光性組成物の提供方法
2020/10/8 2020170554 特許 エッチング液、エッチング液の製造方法、被処理体の処理方法、及びルテニウム含有配線の製造方法
2020/10/2 2020122304 商標 ＴＡＭＦＣ
2020/8/7 2020134507 特許 固体撮像素子の製造方法、積層体、及びドライフィルム
2020/8/5 2020096989 商標 ｅ－Ｍａｔｅｒｉａｌ
2020/8/5 2020096988 商標 Ｔｈｅ　ｅ－Ｍａｔｅｒｉａｌ　Ｇｌｏｂａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ
2020/7/20 2020124078 特許 相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー
2020/7/10 2021533943 特許 波長変換膜、波長変換膜形成用組成物、及びクラスター含有量子ドットの製造方法
2020/7/3 2020082497 商標 ＬＧＰＤ
2020/7/3 2020082496 商標 ＴＬＤＰ
2020/5/20 2021520826 特許 レジスト組成物精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法
2020/3/31 2020062864 特許 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法
2020/3/26 2020032820 商標 ＴＯＫＳ
2019/12/27 2019238291 特許 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法
2019/11/12 2019205087 特許 化学増幅型感光性組成物の製造方法
2019/9/30 2019021907 意匠 細胞観察用容器
2019/9/30 2019021906 意匠 細胞観察用容器
2019/9/12 2020556641 特許 プラズマダイシング用保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法
2019/9/11 2019165263 特許 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム
2019/9/11 2020068592 特許 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム
2019/9/5 2020545963 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2019/8/29 2020546850 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2019/8/8 2019108013 商標 ＵＳＲ
2019/6/27 2019120559 特許 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法
2019/6/27 2019089764 商標 ＳｉｅｖｅＷｅｌｌ
2019/6/25 2019117511 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2019/6/24 2020527515 特許 液状組成物、量子ドット含有膜、光学フィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置
2019/5/27 2019098912 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2019/4/22 2019081253 特許 ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法
2019/3/28 2019064574 特許 組成物及び絶縁部の形成方法
2019/3/22 2019054948 特許 溶液、レジストパターン形成方法、及び半導体デバイスの製造方法
2019/3/20 2019053729 特許 加熱装置、基板処理システム、及び基板処理方法
2019/3/4 2019038933 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2019/2/20 2019028846 特許 ナノ構造体アレイ、水素検出用素子及び水素検出装置
2019/2/12 2019022711 特許 基板加熱装置および基板処理システム
2019/1/28 2019522334 特許 めっき造形物の製造方法
2019/1/28 2019197886 特許 めっき造形物の製造方法
2018/12/27 2018245460 特許 光硬化性組成物、及び硬化物
2018/12/27 2018246206 特許 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法
2018/12/26 2018242552 特許 分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法
2018/12/26 2018243581 特許 基板上の有機系硬化膜を除去する方法、及び酸性洗浄液
2018/12/26 2018243233 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法
2018/12/26 2018243280 特許 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法
2018/12/25 2018241744 特許 樹脂組成物、及びマイクロレンズパターンを備える基板の製造方法
2018/12/21 2018240352 特許 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法
2018/12/21 2018239593 特許 半導体基板の製造方法
2018/12/21 2018239723 特許 二次電池、及び二次電池用多孔質セパレータ
2018/12/18 2018236259 特許 エッチング液、被処理体の処理方法、及び半導体素子の製造方法。
2018/12/17 2018235902 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物
2018/12/7 2018230364 特許 発電装置
2018/12/6 2018229402 特許 相分離構造形成用樹脂組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2018/12/5 2018228559 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
2018/12/5 2018228560 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/12/4 2018227686 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
2018/12/4 2018227633 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物
2018/11/29 2018224232 特許 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜
2018/11/27 2018221690 特許 硬化性組成物、フィルム、光学フィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置
2018/11/22 2018219733 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/11/15 2018214305 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/11/15 2018214307 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/11/12 2018212355 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/11/7 2018210074 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法
2018/11/2 2018207774 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/10/26 2018202225 特許 硬化膜形成用組成物、及び硬化膜形成方法
2018/10/22 2018198075 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2018/9/27 2018182384 特許 積層体処理システム及び積層体処理方法
2018/9/27 2018182519 特許 感光性樹脂組成物、パターニングされた硬化膜の製造方法及び硬化膜
2018/9/27 2018182385 特許 加熱処理装置、イミド系樹脂膜製造システム、及び加熱処理方法
2018/9/26 2019545586 特許 組成物及び硬化物
2018/9/11 2018169610 特許 表面処理剤及び表面処理方法
2018/8/31 2018163992 特許 平坦化膜を具備する基板の製造方法
2018/8/31 2018163993 特許 平坦化膜を具備する基板の製造方法
2018/8/17 2018153499 特許 基板加熱装置および基板処理システム
2018/8/7 2018148321 特許 イミド系樹脂膜製造システム、イミド系樹脂膜製造方法及びセパレータ製造方法
2018/8/7 2018100917 商標 ＳＥＳＧ
2018/8/7 2018148320 特許 積層体の製造方法、積層体、及び電子装置の製造方法
2018/8/3 2019538040 特許 気体分離方法、及び気体分離膜
2018/7/30 2018142435 特許 組成物、硬化物、硬化物の製造方法、塩、並びにポリイミド膜形成用組成物の経時変化抑制及び成膜性向上剤
2018/7/26 2018140721 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法
2018/7/26 2019532866 特許 芳香族アミン化合物、エポキシ化合物用硬化剤、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及び芳香族アミン化合物の製造方法
2018/7/26 2018140455 特許 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法
2018/7/17 2018134501 特許 シリカ系被膜形成用の組成物、シリカ系被膜を備える基板の製造方法、及びシリカ系被膜形成用の組成物に添加される添加剤
2018/7/13 2018133507 特許 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、増感剤、及び化学増幅型感光性組成物の増感方法
2018/7/11 2018131520 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/7/3 2018127151 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/6/29 2018125174 特許 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法
2018/6/28 2018123728 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/6/28 2018123733 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/6/27 2018122521 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法及び含窒素複素環化合物
2018/6/27 2018122522 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法及び含窒素芳香族複素環化合物
2018/6/26 2018121120 特許 ポリイミド焼成方法およびポリイミド焼成装置
2018/6/26 2018121211 特許 組成物、硬化物、パターン形成方法、化合物、重合体、及び化合物の製造方法
2018/6/25 2018120191 特許 分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法
2018/6/18 2018115625 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/6/18 2018115624 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
2018/5/28 2018101872 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
2018/5/28 2018101870 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
2018/5/28 2018101874 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/5/28 2018101877 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/5/28 2018101873 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/5/28 2018101879 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/5/11 2018092040 特許 細胞捕捉用フィルター膜及びその使用
2018/4/27 2018087681 特許 ポリイミド前駆体組成物、ポリアミド酸、ポリイミド樹脂、ポリイミド膜、及び光学装置
2018/3/30 2018069517 特許 ２液型の表面処理液、表面処理方法、及び液状組成物
2018/3/28 2018062917 特許 水素バリア剤、水素バリア膜形成用組成物、水素バリア膜、水素バリア膜の製造方法、及び電子素子
2018/3/28 2019509987 特許 水素検出用素子、水素検出用素子の製造方法および水素検出装置
2018/3/23 2018056393 特許 フォトマスク、及び、表示装置の製造方法
2018/3/16 2018049774 特許 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2018/3/16 2018049966 特許 光硬化性組成物及びパターン形成方法
2018/3/15 2018048196 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2018/3/12 2018044007 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法
2018/3/5 2018039127 特許 ブロック共重合体及びその製造方法、ならびに相分離構造を含む構造体の製造方法
2018/3/2 2018037951 特許 表面処理方法、表面処理液、及び表面処理された物品
2018/2/20 2018028286 特許 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法
2018/2/13 2018023488 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2018/2/2 2019515103 特許 洗浄方法、洗浄装置、記憶媒体、及び洗浄組成物
2018/2/2 2019507412 特許 表面処理液、及び表面処理方法
2018/1/23 2018009211 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2018/1/16 2018005185 特許 非水電解質二次電池、及び非水電解質二次電池の製造方法
2018/1/15 2018004228 特許 基板処理装置及び基板処理方法
2017/12/28 2017254871 特許 レジストパターン形成方法
2017/12/28 2017253915 特許 有機系下層膜を除去する方法、及び酸性洗浄液
2017/12/28 2017253543 特許 接着剤組成物、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法
2017/12/28 2017254680 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2017/12/28 2017254655 特許 積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法
2017/12/28 2017253724 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2017/12/28 2017254491 特許 塗布装置及び塗布装置の制御方法
2017/12/28 2017254988 特許 感光性組成物、硬化物、硬化物形成方法、カラーフィルター、及び画像表示装置
2017/12/28 2017253930 特許 リワーク方法、及び酸性洗浄液
2017/12/28 2017254872 特許 レジストパターン形成方法
2017/12/28 2017254665 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/12/28 2017254853 特許 基板の撥水化方法、表面処理剤、及び基板表面を洗浄液により洗浄する際の有機パターン又は無機パターンの倒れを抑制する方法
2017/12/27 2017252360 特許 変性セルロース繊維、分散液、多孔質膜、蓄電素子、及び多孔質膜の製造方法
2017/12/26 2017249820 特許 感光性樹脂組成物、硬化膜、表示装置、及びパターン形成方法
2017/12/25 2017248498 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/12/22 2017247015 特許 ケイ素含有樹脂組成物、ケイ素含有樹脂フィルム、シリカフィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置
2017/12/22 2017247036 特許 樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、膜形成方法及び硬化物
2017/12/22 2017247035 特許 パターン形成方法及びポリシラン樹脂前駆体の製造方法
2017/12/21 2017245116 特許 表面処理液、表面処理方法、及びパターン倒れの抑制方法
2017/12/15 2017240953 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/12/15 2018559050 特許 ポリシラン化合物の製造方法、組成物、膜、及び基板
2017/12/15 2017164744 商標 ＩＴＣＳ
2017/12/14 2017239823 特許 洗浄液及びこれを製造する方法
2017/12/14 2017239885 特許 接着剤組成物、接着層付き支持体、接着フィルム、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法
2017/12/14 2017239822 特許 洗浄液、防食剤、及びこれらを製造する方法
2017/12/12 2017163157 商標 ＴＨＲＩ
2017/12/8 2018556642 特許 表面処理液、及び表面処理方法
2017/12/5 2018555013 特許 粒子捕捉デバイス及び粒子を均一に捕捉する方法
2017/11/29 2017229532 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
2017/11/28 2017228267 特許 不純物拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法
2017/11/22 2017225206 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
2017/11/10 2017217646 特許 ポンプ、塗布装置および塗布方法
2017/11/10 2017217614 特許 硬化性組成物、硬化膜形成方法、硬化物、パターン化されている硬化膜、及び透明光学部材
2017/11/10 2017217645 特許 ポンプ及び塗布装置
2017/11/10 2017217667 特許 ノズルおよび塗布装置
2017/11/8 2017215943 特許 均一系塗布液及びその製造方法、並びに塗布膜及びその形成方法
2017/10/31 2017211379 特許 表面処理液、及び表面処理方法
2017/10/31 2017211380 特許 表面処理方法、表面処理液、及び表面処理された物品
2017/10/24 2018550120 特許 洗浄液及び基板を洗浄する方法
2017/10/23 2017204363 特許 紫外線照射装置および紫外線照射方法
2017/10/16 2017136222 商標 ＥＵＶＲ
2017/10/5 2017195388 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
2017/9/29 2017191921 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2017/9/29 2021089373 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2017/9/29 2017191919 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2017/9/29 2017191920 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物
2017/9/28 2017189228 特許 水素バリア剤、水素バリア膜形成用組成物、水素バリア膜、水素バリア膜の製造方法、及び電子素子
2017/9/28 2017189042 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/9/26 2018542588 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2017/9/22 2018542525 特許 洗浄組成物、洗浄方法、及び半導体の製造方法
2017/9/21 2018542482 特許 微粒子の回収方法及び回収システム
2017/9/13 2018542363 特許 ノズル位置計測方法及び回収システム
2017/9/13 2017176005 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、共重合体
2017/9/13 2018539761 特許 基板接着方法及び積層体の製造方法
2017/9/11 2017174295 特許 化合物
2017/9/7 2017172551 特許 感光性組成物、及びそれに用いられる光重合開始剤
2017/8/31 2017167805 特許 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法
2017/8/31 2017168073 特許 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置
2017/8/28 2017163663 特許 強誘電体及びこれを備えるメモリー素子、並びに強誘電体の製造方法
2017/8/24 2017161657 特許 ポリイミド前駆体組成物
2017/8/4 2017151972 特許 感光性樹脂組成物、ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂の製造方法、化合物、化合物の製造方法、硬化膜の製造方法、及び硬化膜
2017/7/31 2017148559 特許 硬化性組成物、硬化膜、表示パネル又はＯＬＥＤ照明、並びに硬化物の製造方法
2017/7/31 2018531875 特許 液体の精製方法、及び多孔質膜の製造方法
2017/7/31 2021016930 特許 液体の精製方法、及び多孔質膜の製造方法
2017/7/21 2017142263 特許 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置
2017/7/12 2017136603 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2017/7/3 2017130261 特許 ポリイミドフィルム及びその製造方法
2017/6/23 2017123458 特許 積層体の製造方法、電子装置の製造方法、積層体、及び積層体製造システム
2017/6/22 2017122563 特許 パターン形成方法
2017/6/19 2017119670 特許 樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2017/6/16 2017119132 特許 表面加工樹脂フィルムの製造方法
2017/6/15 2017117794 特許 樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法
2017/6/12 2017115468 特許 積層体、及び積層体の製造方法
2017/6/12 2017115467 特許 ポジ型感光性樹脂組成物、金属配線の製造方法、及び積層体
2017/6/6 2017112034 特許 樹脂、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法
2017/6/6 2021110959 特許 樹脂、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法
2017/5/31 2017108700 特許 感光性組成物、硬化膜、表示装置、及びパターン化された硬化膜の形成方法
2017/5/31 2017107515 特許 チャンバ、チャンバの製造方法、チャンバのメンテナンス方法、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法
2017/5/17 2017098575 特許 硬化性組成物、硬化物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法
2017/5/17 2017098574 特許 硬化性組成物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法
2017/5/16 2017097302 特許 尿素の測定方法及び尿素検出キット
2017/4/27 2017088821 特許 マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物及びその用途
2017/4/18 2017082398 特許 多孔質膜の形成に用いられる分散液、多孔質膜、蓄電素子、及び多孔質膜の製造方法
2017/3/31 2017073070 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤
2017/3/31 2017073071 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/3/31 2017073143 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/3/29 2017064404 特許 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法
2017/3/29 2017066270 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物、及び化合物
2017/3/28 2017062358 特許 トレイ、積層体処理システム、及び積層体処理方法
2017/3/23 2018509206 特許 表面処理方法、及び表面処理液
2017/3/23 2018509183 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/3/23 2021009904 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/3/21 2017055066 特許 ポリマーの製造方法及びレジストパターン形成方法
2017/3/16 2017051960 特許 レジストパターン形成方法
2017/3/16 2021041815 特許 有機溶剤廃液を燃料としてリサイクルする方法、及び有機溶剤廃液を燃料としてリサイクルする方法に用いられる有機溶剤廃液リサイクル処理システム
2017/3/16 2017051555 特許 有機溶剤の処理方法、及び有機溶剤処理システム
2017/3/15 2017050568 特許 層間絶縁膜形成用組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜パターンの形成方法、並びにデバイス
2017/3/15 2017050572 特許 層間絶縁膜形成用組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜パターンの形成方法、並びにデバイス
2017/3/10 2017046764 特許 硬化膜を形成する方法及びめっき造形物の製造方法
2017/3/10 2017046763 特許 感光性組成物、ドライフィルム、及びパターン化された硬化膜を形成する方法
2017/3/10 2017046793 特許 紫外線照射装置及び紫外線照射方法
2017/3/10 2017046765 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法
2017/3/2 2017039819 特許 表面処理方法及び表面処理液
2017/3/1 2018503375 特許 半導体基板又は装置の洗浄液及び洗浄方法
2017/2/28 2017037400 特許 半導体基板の製造方法
2017/2/27 2017035254 特許 ブロック共重合体及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2017/2/23 2017022506 商標 ＰＭＥＲ
2017/2/13 2017024396 特許 樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、フレキシブル基板、及びフレキシブルディスプレイ
2017/2/7 2017020445 特許 ダイシング用保護膜基材、ダイシング用保護膜組成物、ダイシング用保護シート、及び被加工ウエーハの製造方法
2017/2/7 2017020084 特許 キャッピング装置、及びキャッピング方法
2017/2/3 2017019111 特許 積層体、フレキシブルデバイスおよび積層体の製造方法
2017/2/3 2017019112 特許 積層体、フレキシブルデバイス及び積層体の製造方法
2017/1/31 2017016202 特許 重合性組成物、硬化膜の製造方法、及び硬化膜
2017/1/30 2017008015 商標 ＮＣＤＳ
2017/1/27 2017013439 特許 インプリント用下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
2017/1/25 2017011712 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/1/25 2017011707 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2017/1/24 2017010350 特許 分析用器材
2017/1/18 2017006934 特許 樹脂組成物、ブラックマトリクス、表示装置、及びブラックマトリクスの製造方法
2017/1/13 2017004430 特許 組成物及びシリカ質膜の製造方法
2017/1/12 2017562535 特許 ポリイミドフィルムの製造方法、ポリイミドフィルム、ポリアミド酸溶液及び感光性組成物
2016/12/28 2016257102 特許 ポリシラン化合物、組成物、硬化物及び基板の製造方法、並びにアニオン重合選択的促進剤
2016/12/28 2016257008 特許 組成物、硬化物、パターン形成方法、化合物、重合体、及び化合物の製造方法
2016/12/28 2016257063 特許 ポリシランの製造方法及びこれに用いる活性金属マグネシウム成分の製造方法
2016/12/27 2016253304 特許 細胞培養用チップの製造方法
2016/12/21 2016248488 特許 相分離構造形成用樹脂組成物、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法
2016/12/20 2016246144 特許 塗布装置、及び塗布方法
2016/12/20 2016246143 特許 塗布装置、及び塗布方法
2016/12/14 2016242725 特許 表面処理液、及び親水化処理方法
2016/12/14 2016242724 特許 親水化処理方法、及び表面処理液のセット
2016/12/9 2016239761 特許 基材上に平坦化膜又はマイクロレンズを形成するために用いられるエネルギー感受性組成物、硬化体の製造方法、硬化体、マイクロレンズの製造方法、及びＣＭＯＳイメージセンサ
2016/12/8 2017555140 特許 有機金属化合物
2016/11/30 2016233274 特許 感光性組成物、硬化膜、発光表示素子用の発光層、発光表示素子、及び発光層の形成方法
2016/11/22 2016226896 特許 パターン形成方法
2016/11/18 2017551939 特許 アルギナーゼ活性の測定方法、アルギナーゼ活性の検出キット、アルギナーゼ関連疾患検出キット、及びアルギナーゼの阻害剤又は活性剤のスクリーニング方法
2016/11/8 2016218419 特許 多孔質膜形成用組成物、セパレータ、電気化学素子、及び電極複合体の製造方法
2016/11/1 2017517135 特許 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法
2016/10/31 2016213681 特許 低屈折率膜形成用感光性樹脂組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法
2016/10/31 2016213465 特許 パターン形成用感光性樹脂組成物、硬化膜、低屈折率膜、光学デバイス、並びにパターン化された硬化膜又は低屈折率膜の形成方法
2016/10/28 2016211598 特許 継手部材、キャピラリーユニット及びスクリーニング装置
2016/10/25 2016209008 特許 着色剤分散液、感光性樹脂組成物、硬化物、有機ＥＬ素子、パターンの形成方法、及び感光性樹脂組成物の製造方法
2016/10/24 2016208089 特許 感光性組成物、感光性組成物の製造方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の調製方法
2016/10/24 2016208090 特許 感光性組成物、及び硬化膜の形成方法
2016/10/20 2016206341 特許 接着剤組成物、及びその利用
2016/10/13 2017545451 特許 レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
2016/10/12 2016201193 特許 レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2016/10/7 2016199225 特許 感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法
2016/10/7 2016199460 特許 貼付装置
2016/10/6 2016198451 特許 レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法
2016/10/6 2016198452 特許 レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法
2016/10/5 2016197492 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
2016/9/30 2016193544 特許 プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、及び塗布装置
2016/9/30 2016193529 特許 塗布装置、及び塗布方法
2016/9/30 2016195101 特許 樹脂組成物、硬化物の製造方法、及び硬化物
2016/9/29 2016192128 特許 リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法
2016/9/29 2016192129 特許 リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法
2016/9/29 2021011418 特許 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法
2016/9/29 2021011368 特許 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法
2016/9/29 2016192131 特許 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法
2016/9/28 2016189459 特許 基板の表面物性を制御する方法
2016/9/26 2017543237 特許 基板、構造体、構造体の製造方法、細胞の選別方法、細胞の製造方法、及び分泌物の産生方法
2016/9/26 2019181550 特許 構造体の製造方法
2016/9/26 2016187288 特許 拡散剤組成物の塗布方法
2016/9/23 2016185624 特許 レジストパターン形成方法及びシュリンク剤組成物
2016/9/20 2016183499 特許 接着剤組成物、及びその利用
2016/9/20 2016183160 特許 表面処理液
2016/9/20 2016183516 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/9/20 2016183517 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/9/15 2016181007 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/9/14 2016179813 特許 エネルギー感受性組成物、硬化物及び硬化物の製造方法
2016/9/13 2016179028 特許 相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2016/9/2 2017508579 特許 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法
2016/9/2 2016172314 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/8/31 2017538086 特許 多孔質膜の製造方法
2016/8/31 2017538087 特許 多孔質膜及びその製造方法
2016/8/31 2016170206 特許 ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法
2016/8/31 2020142779 特許 多孔質膜及びその製造方法
2016/8/30 2018242542 特許 基板加熱装置及びポリイミド膜の製造方法
2016/8/30 2016167693 特許 基板加熱装置及び基板加熱方法
2016/8/30 2016167793 特許 基板加熱装置、基板加熱方法及び赤外線ヒータ
2016/8/30 2016095179 商標 ＯＳＲＡ
2016/8/25 2016164983 特許 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置
2016/8/19 2016161498 特許 レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2016/8/19 2016161499 特許 レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2016/8/10 2016158103 特許 レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法
2016/8/8 2016155589 特許 ポリイミド、ポリアミド酸、ポリアミド酸溶液、及び、ポリイミドフィルム
2016/8/8 2016155877 特許 基板の製造方法
2016/8/8 2017534446 特許 ポリイミド前駆体組成物
2016/8/5 2016154718 特許 多孔質体、フィルタ、フィルターメディア、フィルターデバイス、アクリル系ポリマーの精製方法及び製造方法、並びに感光性樹脂組成物の製造方法
2016/8/5 2016084434 商標 ＴＡＰＭ
2016/8/3 2016152682 特許 ポリイミド系樹脂膜洗浄液、ポリイミド系樹脂膜を洗浄する方法、ポリイミド膜を製造する方法、フィルタ、フィルターメディア又はフィルターデバイスを製造する方法、及びリソグラフィー用薬液の製造方法
2016/8/3 2016152997 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/8/1 2016151527 特許 レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法
2016/7/29 2016150069 特許 感光性組成物
2016/7/26 2017534173 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2016/7/25 2016145204 特許 ガス透過膜
2016/7/22 2016144712 特許 感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法
2016/7/22 2016144933 特許 高分子化合物の製造方法
2016/7/22 2016144949 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物
2016/7/19 2016141620 特許 支持体分離装置および支持体分離方法
2016/7/8 2020078591 特許 ケイ素含有樹脂組成物
2016/7/8 2018245500 特許 ケイ素含有樹脂組成物
2016/7/8 2017527506 特許 ケイ素含有樹脂組成物
2016/7/8 2016136411 特許 レジストパターン形成方法
2016/7/4 2016132857 特許 基板洗浄装置、基板洗浄方法、搬送装置、及び、基板処理システム
2016/7/1 2016131660 特許 積層体、その製造方法、電子部品の製造方法、及び積層体において分離層と基板との接着性を向上させる方法
2016/7/1 2016071657 商標 ＥＭ　Ｒｅｍｏｖｅｒ
2016/6/30 2021083085 特許 感光性樹脂組成物、硬化膜、有機ＥＬ素子における発光層の区画用のバンク、有機ＥＬ素子用の基板、有機ＥＬ素子、硬化膜の製造方法、バンクの製造方法、及び有機ＥＬ素子の製造方法
2016/6/30 2016131056 特許 感光性樹脂組成物、硬化膜、有機ＥＬ素子における発光層の区画用のバンク、有機ＥＬ素子用の基板、有機ＥＬ素子、硬化膜の製造方法、バンクの製造方法、及び有機ＥＬ素子の製造方法
2016/6/29 2016129426 特許 支持体分離方法、および基板処理方法
2016/6/29 2016129427 特許 支持体分離装置、及び支持体分離方法
2016/6/29 2016129425 特許 支持体分離装置、および支持体分離方法
2016/6/28 2016128113 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/6/28 2016128162 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
2016/6/28 2016128091 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/6/21 2016123069 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
2016/6/21 2016123080 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
2016/6/21 2016122761 特許 表面処理剤及び表面処理方法
2016/6/21 2016122762 特許 シリル化剤溶液、表面処理方法、及び半導体デバイスの製造方法
2016/6/16 2016120040 特許 着色感光性組成物
2016/6/15 2016119287 特許 重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法
2016/6/13 2016117448 特許 積層体の製造方法、及びその利用
2016/6/9 2016115413 特許 レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2016/6/8 2016114705 特許 レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2016/6/7 2016113871 特許 積層体
2016/6/7 2016113872 特許 積層体の製造方法
2016/5/18 2016099971 特許 封止体の製造方法
2016/5/17 2016098575 特許 レジストパターン形成方法
2016/5/6 2016093478 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2016/4/28 2016091292 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2016/4/28 2016091291 特許 感光性樹脂組成物
2016/4/27 2016089896 特許 化合物及びその製造方法
2016/4/27 2016089900 特許 感光性組成物
2016/4/19 2016083448 特許 送液性が改善されたフォトリソグラフィー用薬液及びこれを含むレジスト組成物｛ＣＨＥＭＩＣＡＬ　ＦＯＲ　ＰＨＯＴＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ　ＷＩＴＨ　ＩＭＰＲＯＶＥＤ　ＬＩＱＵＩＤ　ＴＲＡＮＳＦＥＲ　ＰＲＯＰＥＲＴＹ　ＡＮＤ　ＲＥＳＩＳＴ　ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮ　ＣＯＭＰＲＩＳＩＮＧ　ＴＨＥ　ＳＡＭＥ｝
2016/4/8 2016078240 特許 感光性樹脂組成物
2016/3/31 2016073723 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2016/3/31 2016073166 特許 塗布装置及び塗布方法
2016/3/31 2016070963 特許 高周波アンテナ素子、及び高周波アンテナモジュール
2016/3/31 2016071227 特許 基板処理装置、及び、基板処理方法
2016/3/30 2016069370 特許 半導体基板の製造方法
2016/3/30 2016068800 特許 金属酸化物膜形成用塗布剤及び金属酸化物膜を有する基体の製造方法
2016/3/25 2017508468 特許 ネガ型感光性組成物、パターン形成方法
2016/3/25 2016062802 特許 着色感光性組成物、それによって得られる着色硬化物、表示素子及び着色硬化物の製造方法
2016/3/25 2016061913 特許 ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂の製造方法、並びにポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂
2016/3/25 2016062854 特許 積層体、及び積層体の製造方法
2016/3/24 2017509870 特許 感エネルギー性樹脂組成物
2016/3/24 2016059628 特許 不純物拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法
2016/3/17 2016054505 特許 表面処理方法、帯電防止剤及び親水化処理剤
2016/3/9 2016046024 特許 半導体基板の製造方法
2016/3/9 2016046013 特許 拡散剤組成物
2016/3/4 2016042500 特許 洗浄液及び洗浄方法
2016/3/3 2016041585 特許 接着剤組成物、積層体、及び、積層体の製造方法
2016/2/26 2016036316 特許 カルボン酸エステル含有組成物
2016/2/26 2016036356 特許 カルボン酸エステルの製造方法、エステル化剤、及び開環付加触媒
2016/2/26 2016036337 特許 硬化性樹脂組成物
2016/2/26 2016035657 特許 液晶ポリエステルの製造方法
2016/2/23 2016031894 特許 圧電素子、センサ、アクチュエータ、及び圧電素子の製造方法
2016/2/23 2020077944 特許 配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法
2016/2/23 2016031895 特許 配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法
2016/2/19 2016030348 特許 リソグラフィー用洗浄液及び洗浄方法
2016/2/17 2016028401 特許 貼付装置、貼付システム、及び貼付方法
2016/2/17 2016028387 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2016/2/16 2016027413 特許 積層体、積層体の製造方法、及び基板の処理方法
2016/2/9 2016023096 特許 ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法
2016/2/3 2020150721 特許 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス
2016/2/3 2016573402 特許 ポリイミド及び／又はポリアミドイミド多孔質体並びにその製造方法、分離及び／又は吸着を行う方法、分離材、吸着材、フィルターメディア、積層体、並びに、フィルターデバイス
2016/2/3 2016019176 特許 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス
2016/1/20 2016008924 特許 感光性組成物、当該感光性組成物の製造方法、当該感光性組成物を用いる膜の形成方法、感光性組成物の保管時の増粘抑制方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の製造方法
2016/1/19 2016007724 特許 紫外線照射装置及び紫外線照射方法
2016/1/18 2016007198 特許 多孔質膜
2016/1/14 2016005639 特許 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置
2016/1/14 2016005550 特許 感光性組成物
2015/12/25 2015253512 特許 イメージセンサ用永久接着剤組成物、並びにそれを用いた接着方法及び積層体
2015/12/15 2015244592 特許 高分子化合物の製造方法
2015/12/14 2015243533 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤
2015/12/10 2015241538 特許 レジストパターン形成方法
2015/12/8 2016563699 特許 硬化性組成物
2015/12/8 2015239661 特許 黒色感光性組成物
2015/12/4 2015237617 特許 機能膜製造システム、機能膜製造方法、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法。
2015/12/3 2015236918 特許 積層体の製造方法、及び、その利用
2015/12/1 2015117956 商標 ＴＯＫ
2015/12/1 2015235115 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物
2015/12/1 2015117957 商標 §ｔｏｋ
2015/12/1 2015235031 特許 ポジ型フォトレジスト組成物
2015/11/18 2015225644 特許 表面処理方法及び表面処理液
2015/11/16 2015223904 特許 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法、並びにデバイス
2015/11/11 2015221625 特許 積層体の製造方法および基板の処理方法
2015/11/11 2019191470 特許 積層体の製造方法および基板の処理方法
2015/11/10 2015220512 特許 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス
2015/11/6 2015218922 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2015/11/6 2015218925 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2015/11/6 2015218863 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2015/10/30 2016556646 特許 感光性組成物、パターン付き基板、細胞培養支持体および培養細胞の製造方法
2015/10/30 2015215013 特許 基板加熱装置及び基板加熱方法
2015/10/29 2016562353 特許 積層体の製造方法、基板の処理方法及び積層体
2015/10/26 2015210176 特許 支持体分離方法
2015/10/23 2015209229 特許 レジストパターン形成方法
2015/10/23 2015209228 特許 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、デバイス及び層間絶縁膜の形成方法
2015/10/21 2015207316 特許 電磁波吸収体及び膜形成用ペースト
2015/10/19 2015205286 特許 触媒層形成装置、触媒層の形成方法、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法
2015/10/6 2015198848 特許 塗布装置及び塗布方法
2015/10/6 2015198778 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤
2015/10/5 2015198037 特許 レジストパターンのトリミング方法
2015/9/30 2015192666 特許 レジストパターン形成方法
2015/9/30 2015194701 特許 基板ケース、収納部、及び、基板搬送器
2015/9/30 2015194184 特許 レジストパターン形成方法及びパターン厚肉化用ポリマー組成物
2015/9/29 2015192340 特許 硬化性組成物
2015/9/29 2015192333 特許 半導体基板の製造方法
2015/9/25 2016550404 特許 透明体の製造方法、透明体及び非晶質体
2015/9/25 2016550417 特許 スルホニウム塩、光酸発生剤、及び感光性組成物
2015/9/25 2020080332 特許 スルホニウム塩の合成方法
2015/9/10 2015087619 商標 ＴＰＩＲ
2015/9/7 2016547435 特許 多孔質ポリイミド膜の製造方法
2015/9/1 2015171984 特許 ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物
2015/9/1 2015172101 特許 レジストパターン形成方法、レジストパターンスプリット剤、スプリットパターン改善化剤及びレジストパターンスプリット材料
2015/8/28 2015169516 特許 レジストパターン形成方法、シュリンク剤組成物及びシュリンク剤組成物の製造方法
2015/8/27 2016545619 特許 イミダゾール化合物、金属表面処理液、金属の表面処理方法、及び積層体の製造方法
2015/8/27 2016550059 特許 金属二次電池用セパレータ
2015/8/27 2017222264 特許 イミダゾール化合物
2015/8/26 2015167116 特許 レジストパターン形成方法
2015/8/24 2015164827 特許 ブロック共重合体、ブロック共重合体の製造方法及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2015/8/20 2015162814 特許 ノズルおよび塗布装置
2015/8/19 2016544226 特許 多孔質ポリイミド膜製造用ワニス及びそれを用いた多孔質ポリイミド膜の製造方法
2015/8/18 2015161085 特許 清掃部材、塗布装置及び塗布方法
2015/8/12 2016545432 特許 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法
2015/8/11 2015158946 特許 レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法
2015/8/10 2015158021 特許 紫外線照射装置、レジストパターン形成装置、紫外線照射方法及びレジストパターン形成方法
2015/8/6 2015156493 特許 感光性組成物
2015/8/3 2015153347 特許 紫外線照射装置及び紫外線照射方法
2015/8/3 2015153635 特許 シランカップリング剤水溶液、単分子膜製造方法及びめっき造形方法
2015/7/30 2015151153 特許 感光性組成物
2015/7/29 2015559356 特許 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法
2015/7/23 2015146227 特許 微粒子含有組成物
2015/7/23 2020109147 特許 微粒子含有組成物
2015/7/14 2016534447 特許 化合物
2015/7/14 2017152779 特許 感光性組成物
2015/7/14 2017229068 特許 感光性組成物及び化合物
2015/7/14 2019204246 特許 感光性組成物及び化合物
2015/7/1 2015132820 特許 組成物及びこれを用いて得られる膜
2015/6/26 2019094831 特許 ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2015/6/26 2015129169 特許 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び光反応性クエンチャー
2015/6/26 2015128335 特許 スルホニウム塩および光酸発生剤
2015/6/24 2015126884 特許 組成物
2015/6/24 2015126921 特許 パターン形成方法
2015/6/17 2015121983 特許 硬化性組成物、硬化物の製造方法、及びハードコート材
2015/6/17 2015122327 特許 エッチング組成物及び伝導膜の製造方法
2015/6/16 2015120901 特許 化合物、及びそれを含むネガ型感光性組成物
2015/6/16 2016529369 特許 多孔性のイミド系樹脂膜製造システム、及び多孔性のイミド系樹脂膜製造方法
2015/6/16 2016529370 特許 塗布装置及び多孔性のイミド系樹脂膜製造システム
2015/6/16 2016529371 特許 イミド系樹脂膜製造システム及びイミド系樹脂膜製造方法
2015/6/15 2015120482 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2015/6/15 2015120483 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2015/6/15 2015120484 特許 ナノインプリント用組成物、硬化物、パターン形成方法及びパターンを含む物品
2015/6/15 2015120451 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2015/6/11 2015118297 特許 ガラス加工方法、ガラスエッチング液、及びガラス基板
2015/6/2 2015112555 特許 均一系塗布液及びその製造方法、太陽電池用光吸収層及びその製造方法、並びに太陽電池及びその製造方法
2015/5/29 2015110851 特許 レジストパターン形成方法
2015/5/27 2015107303 特許 レジストパターン形成方法
2015/5/25 2017117976 特許 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置
2015/5/25 2015105620 特許 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置
2015/5/21 2015103825 特許 黒色組成物
2015/5/21 2015103993 特許 積層体の製造方法及び支持体分離方法
2015/5/14 2015099426 特許 分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法
2015/5/13 2015098361 特許 絶縁膜形成用感光性組成物、及び絶縁膜パターンの形成方法
2015/5/13 2015098020 特許 塗布装置、塗布システム及び塗布方法
2015/5/12 2015097556 特許 膜形成性組成物、及びそれを用いた硬化被膜の製造方法
2015/5/11 2015096328 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法、ブロックコポリマー組成物
2015/4/17 2015084925 特許 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法
2015/4/15 2015083209 特許 ナノインプリント用組成物及びナノインプリントパターン形成方法
2015/3/31 2015073791 特許 感光性樹脂組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及び表示装置
2015/3/31 2015071868 特許 多孔質ポリアミドイミド膜形成用ワニス、多孔質ポリアミドイミド膜並びにそれを用いたセパレータ及び二次電池
2015/3/31 2015073703 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2015/3/31 2020121507 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2015/3/31 2015074166 特許 フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法
2015/3/31 2015073866 特許 感光性樹脂組成物
2015/3/31 2015072875 特許 非水二次電池、その製造方法、及び電解質
2015/3/27 2015066815 特許 感光性樹脂組成物
2015/3/27 2015066200 特許 レジストパターン形成方法
2015/3/26 2015063996 特許 積層膜
2015/3/26 2015063895 特許 基板剥離装置および基板剥離方法
2015/3/25 2015063037 特許 濾過材料、濾過フィルター、濾過材料の製造方法及び濾過方法
2015/3/24 2015061353 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物
2015/3/24 2015061286 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2015/3/24 2015060985 特許 シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法
2015/3/24 2015060593 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、光反応性クエンチャー及び化合物
2015/3/20 2015058676 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物
2015/3/19 2015056437 特許 レジストパターン修復方法
2015/3/18 2015055412 特許 感光性樹脂層の形成方法、ホトレジストパターンの製造方法、及びメッキ造形物の形成方法
2015/3/12 2017188315 特許 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池
2015/3/12 2016507830 特許 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池
2015/2/27 2015039457 特許 接着剤組成物、積層体及び剥離方法
2015/2/27 2015039478 特許 支持体分離方法
2015/2/26 2015036262 特許 非回転式塗布用組成物及び樹脂組成物膜形成方法
2015/2/20 2015031319 特許 感光性樹脂組成物
2015/2/19 2015031086 特許 カーボンブラック分散液
2015/2/17 2015029058 特許 パターン形成方法
2015/2/17 2015029033 特許 感光性樹脂組成物
2015/2/10 2015024774 特許 厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2015/2/9 2015023587 特許 厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2015/2/4 2015020317 特許 着色剤分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤
2015/2/3 2015019314 特許 ポンプおよび塗布装置
2015/1/23 2015011647 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法、パターン形成方法、微細パターン形成方法
2015/1/21 2015009713 特許 マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物
2015/1/20 2015000906 意匠 包装容器注出口用注出管保持具
2015/1/19 2015007463 特許 ポジ型感光性樹脂組成物及び硬化膜
2015/1/16 2015006694 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2015/1/16 2015006715 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2015/1/16 2015006716 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2014/12/15 2014253303 特許 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法
2014/12/5 2014247174 特許 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2014/12/5 2014246801 特許 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2014/12/5 2014246813 特許 スクリーニング装置およびスクリーニング方法
2014/12/5 2014247109 特許 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2014/12/5 2014246812 特許 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法
2014/12/3 2014245407 特許 搬送方法
2014/12/3 2014245396 特許 積層体の製造方法、基板の処理方法及び積層体
2014/12/3 2014245113 特許 エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法
2014/12/3 2014245389 特許 積層体の製造方法、封止基板積層体の製造方法及び積層体
2014/11/11 2014229287 特許 表面被覆膜の形成方法及び表面被覆膜を有する太陽電池
2014/10/31 2019028172 特許 リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法
2014/10/31 2014223711 特許 リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法
2014/10/31 2014223441 特許 レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法
2014/10/30 2014221948 特許 支持体分離方法
2014/10/24 2015508911 特許 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法
2014/10/21 2014214694 特許 多孔質膜、その製造方法、二次電池用多孔質セパレータ及び二次電池
2014/10/21 2014214265 特許 膜製造システム及び膜製造方法
2014/10/20 2014213552 特許 処理装置及び製造システム
2014/10/17 2014212936 特許 レジストパターン形成方法
2014/10/10 2014085689 商標 ＴＯＫセパレータ
2014/10/8 2014207504 特許 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置
2014/9/29 2014198015 特許 半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製方法、半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製装置、及び半導体フォトリソグラフィー用薬液
2014/9/26 2014197341 特許 組成物、硬化物及び光透過性積層体
2014/9/26 2014197164 特許 硬化性組成物及び光学部品
2014/9/26 2014197165 特許 感光性シロキサン組成物及び光学部品
2014/9/26 2014197187 特許 平坦化層を備える構造体
2014/9/26 2014197343 特許 ビニル基含有化合物の製造方法
2014/9/26 2014197422 特許 ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物
2014/9/25 2014195198 特許 感光性樹脂組成物
2014/9/25 2014195199 特許 感光性樹脂組成物
2014/9/25 2015539332 特許 感放射線性組成物及びパターン製造方法
2014/9/17 2014189390 特許 硬化性組成物
2014/9/10 2014184352 特許 エッチング装置及び製造システム
2014/9/10 2014184353 特許 焼成装置、焼成方法、製造システム、及び製造方法
2014/9/9 2014183252 特許 ビニル基含有化合物を含有する組成物
2014/9/9 2014183205 特許 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法
2014/9/9 2014183251 特許 ビニル基含有化合物の製造方法
2014/9/5 2014181253 特許 多孔質膜製造用ワニスの製造方法
2014/8/27 2014173128 特許 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法
2014/8/26 2014171587 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2014/8/26 2014171090 特許 Ｎ－アシルカルバモイル基及びラクトン骨格を含む単量体、及び高分子化合物
2014/8/26 2014172077 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2014/8/21 2014168464 特許 塗布液、太陽電池用光吸収層および太陽電池、ならびにその製造方法
2014/8/19 2014166886 特許 感光性樹脂組成物及びカーボンブラック並びに感光性樹脂組成物の製造方法
2014/8/6 2014160397 特許 多孔質ポリイミド膜の製造方法、セパレータの製造方法、及びワニス
2014/8/6 2015530925 特許 多孔質ポリイミド系樹脂膜の製造方法、多孔質ポリイミド系樹脂膜、及びそれを用いたセパレータ
2014/7/28 2014153199 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法、パターン形成方法及び微細パターン形成方法
2014/7/25 2014152404 特許 有機ＥＬ表示素子における絶縁膜形成用の感光性樹脂組成物
2014/7/22 2014149247 特許 相分離構造体の製造方法、パターン形成方法及び微細パターン形成方法
2014/7/16 2014555004 特許 半導体発光素子及びフォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法
2014/7/16 2015119913 特許 フォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法、プログラム及び記録媒体
2014/7/15 2014145258 特許 感光性組成物
2014/7/4 2014139143 特許 膜製造方法及び積層体製造方法
2014/7/4 2014139142 特許 複合層材料
2014/7/2 2014137211 特許 金属カルコゲナイド分散液の製造方法、金属カルコゲナイド分散液、太陽電池用光吸収層の製造方法及び太陽電池の製造方法
2014/6/30 2014134398 特許 樹脂基板の製造方法および表示デバイスの製造方法
2014/6/27 2014133372 特許 メンブレンフィルターの製造方法
2014/6/27 2014133371 特許 メンブレンフィルター
2014/6/27 2014133338 特許 剥離用組成物及び剥離方法
2014/6/27 2014133373 特許 メンブレンフィルター
2014/6/27 2014133088 特許 感エネルギー性樹脂組成物
2014/6/25 2014130557 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
2014/6/19 2015522975 特許 非水二次電池及びその製造方法
2014/6/16 2014123760 特許 接着剤組成物及びその利用
2014/6/10 2014119506 特許 貼付装置および貼付方法
2014/6/4 2015521516 特許 二次電池用セパレータの製造方法およびリチウム二次電池の製造方法
2014/5/28 2015521408 特許 ワニス、それを用いて製造した多孔質ポリイミド膜、及びその製造方法
2014/5/26 2014108402 特許 拡散剤組成物及び不純物拡散層の形成方法
2014/5/21 2014105585 特許 窒化ガリウムの製造方法
2014/5/21 2014105584 特許 ポリベンゾオキサゾール樹脂の製造方法
2014/5/15 2014101767 特許 積層体の製造方法および積層体
2014/5/1 2014094821 特許 感光性樹脂組成物
2014/5/1 2014094760 特許 ビニル基含有化合物を含有する感光性組成物
2014/4/22 2014088191 特許 プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、および塗布装置
2014/4/18 2014086576 特許 細胞培養基材形成用の感光性樹脂組成物
2014/4/9 2014080576 特許 フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法
2014/4/9 2014080352 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法及びトップコート膜の成膜方法
2014/4/9 2014080353 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法及びトップコート膜の成膜方法
2014/4/8 2014079750 特許 透明部材形成用組成物、及びその硬化物からなる透明部材
2014/4/4 2014078034 特許 リソグラフィー用洗浄液、及び基板のエッチング加工方法
2014/3/31 2014561642 特許 多孔質ポリイミド膜の製造方法、多孔質ポリイミド膜、及びそれを用いたセパレータ
2014/3/31 2014074478 特許 顔料分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤
2014/3/28 2015508794 特許 ビニル基含有フルオレン系化合物
2014/3/28 2018096235 特許 ビニル基含有化合物を含有する組成物
2014/3/28 2015508792 特許 ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物
2014/3/28 2015508793 特許 ビニル基含有化合物を含有する組成物
2014/3/27 2014067153 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2014/3/26 2014064578 特許 パターン微細化用被覆剤
2014/3/24 2015508482 特許 貼付方法
2014/3/20 2014059147 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物
2014/3/19 2014057175 特許 厚さ測定器
2014/3/17 2017227202 特許 化合物
2014/3/17 2014054189 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2014/3/14 2014052697 特許 貼付方法
2014/3/14 2014052497 特許 結晶成長制御剤、ｐ型半導体微粒子又はｐ型半導体微粒子膜の形成方法、正孔輸送層形成用組成物、及び太陽電池
2014/3/14 2014052498 特許 正孔輸送層形成用組成物及び太陽電池
2014/3/12 2014048804 特許 細胞培養基材及びパターン化された培養細胞の培養方法
2014/3/11 2014048175 特許 塗布装置、基板処理装置、塗布方法及び基板処理方法
2014/3/10 2014046887 特許 エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法
2014/3/10 2014046957 特許 チャンバー装置及び加熱方法
2014/3/7 2014045634 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2014/2/25 2014034359 特許 ノズルおよび塗布装置
2014/2/20 2014030834 特許 ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液
2014/2/18 2014028955 特許 接着剤積層体及びその利用
2014/2/18 2014028644 特許 ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液
2014/2/13 2014025858 特許 貼付方法
2014/2/10 2014023654 特許 ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物
2014/1/30 2014015860 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2014/1/30 2014001848 意匠 包装用容器注出口
2014/1/30 2014001847 意匠 包装用容器注出口
2014/1/30 2014001849 意匠 包装用容器注出口
2014/1/17 2014007250 特許 光インプリント用組成物及びそれを用いたパターンの製造方法
2014/1/16 2014006140 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物
2014/1/16 2014006274 特許 化合物の製造方法、及び高分子化合物の製造方法
2014/1/16 2017197119 特許 化合物及び高分子化合物
2014/1/16 2014006273 特許 レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法
2013/12/27 2013271455 特許 パターン形成方法
2013/12/27 2013272916 特許 ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物
2013/12/25 2014554492 特許 感エネルギー性樹脂組成物
2013/12/25 2013267975 特許 感光性樹脂組成物
2013/12/17 2013260594 特許 下地剤及びパターン形成方法
2013/12/16 2013259497 特許 積層体、積層体の製造方法、及び基板の処理方法
2013/12/6 2013253651 特許 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/12/5 2013252469 特許 ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び錯体
2013/12/5 2013252094 特許 シリカ系被膜形成用組成物及びこれを用いたシリカ系被膜の製造方法
2013/11/29 2013248662 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物
2013/11/25 2013243353 特許 パターン微細化用被覆剤
2013/11/22 2013242339 特許 化学強化ガラス基板の加工方法
2013/11/21 2013240972 特許 感エネルギー性組成物
2013/11/21 2017124471 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/11/21 2013241247 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/11/20 2013240348 特許 処理方法
2013/11/20 2013240347 特許 処理方法
2013/11/19 2013239117 特許 ラインパターンの形成方法
2013/11/19 2013238676 特許 フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法
2013/11/15 2013236868 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物
2013/11/14 2013236214 特許 ブラックカラムスペーサ形成用感光性樹脂組成物
2013/11/8 2013232187 特許 ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法、並びに、メタル層からなるパターンの形成方法、及び貫通電極の製造方法
2013/11/1 2013228454 特許 反応現像画像形成法
2013/10/31 2013226686 特許 太陽電池の製造方法
2013/10/31 2013226685 特許 太陽電池の製造方法
2013/10/29 2013224673 特許 保持装置および保持方法
2013/10/28 2013223585 特許 絶縁部形成用感光性樹脂組成物
2013/10/25 2013222564 特許 レジストパターン形成方法及びレジスト組成物
2013/10/25 2013222422 特許 塗布装置および塗布方法
2013/10/25 2013222432 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2013/10/17 2013216695 特許 剥離用組成物及び剥離方法
2013/9/26 2013200408 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/9/24 2018043614 特許 化合物
2013/9/24 2013197580 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/9/24 2014538496 特許 積層体、積層体の分離方法、および分離層の評価方法
2013/9/13 2013191067 特許 積層体、積層体形成キットおよび積層体形成方法
2013/9/9 2013186781 特許 硬化性組成物
2013/9/3 2013182588 特許 透明絶縁膜形成用組成物
2013/8/30 2013180600 特許 チャンバー装置及び加熱方法
2013/8/29 2013178626 特許 接着剤組成物及び接着フィルム
2013/8/28 2013177344 特許 積層体の製造方法及び積層体
2013/8/23 2013173960 特許 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの製造方法
2013/8/9 2013166687 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2013/8/9 2013166530 特許 化学増幅型感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの製造方法
2013/8/6 2013163471 特許 有機溶剤現像液
2013/7/31 2013159766 特許 構造体の製造方法
2013/7/31 2013159899 特許 レジスト組成物、酸発生剤、及びレジストパターン形成方法
2013/7/31 2013159368 特許 感光性樹脂組成物
2013/7/26 2014527033 特許 光吸収層形成用塗布液の製造方法
2013/7/24 2013153870 特許 下地剤、相分離構造を含む構造体の製造方法
2013/7/12 2013146872 特許 感エネルギー性樹脂組成物
2013/7/11 2013145864 特許 支持体分離装置
2013/7/5 2013141351 特許 ネガ型感光性樹脂組成物
2013/7/2 2013139165 特許 フッ化炭素、フッ化炭素の製造方法、及びその利用
2013/6/28 2013137276 特許 下地剤及びパターン形成方法
2013/6/26 2013133767 特許 膜形成用組成物
2013/6/20 2013129916 特許 樹脂組成物
2013/6/20 2013129915 特許 不純物拡散成分の拡散方法、及び太陽電池の製造方法
2013/6/17 2013126378 特許 ガラス加工用感光性樹脂組成物及びガラス加工方法
2013/6/17 2013126565 特許 流体用容器
2013/6/17 2013126563 特許 流体用容器
2013/6/17 2013126379 特許 ガラス加工用感光性樹脂組成物及びガラス加工方法
2013/6/14 2013013430 意匠 包装用容器注出口
2013/6/10 2013122142 特許 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/6/3 2013117292 特許 接着剤組成物、接着フィルム、貼付方法、および処理方法
2013/5/31 2017103131 特許 レジスト組成物、化合物、高分子化合物及びレジストパターン形成方法
2013/5/31 2013115542 特許 レジスト組成物、化合物、高分子化合物及びレジストパターン形成方法
2013/5/31 2013114827 特許 スルホニウム塩および光酸発生剤
2013/5/31 2013114908 特許 貼付装置
2013/5/31 2013114909 特許 貼付装置
2013/5/31 2013114910 特許 貼付装置
2013/5/23 2013108857 特許 塗布装置
2013/5/9 2013099658 特許 モールド材の処理方法及び構造体の製造方法
2013/5/8 2013098808 特許 貼付装置及び貼付方法
2013/4/30 2013095969 特許 支持体分離装置及び支持体分離方法
2013/4/23 2013090370 特許 遮光層形成用感光性基材組成物の製造方法
2013/4/23 2013090756 特許 被膜形成方法
2013/4/22 2013089812 特許 未焼成複合膜、ポリイミド－微粒子複合膜、及び多孔質ポリイミド膜の製造方法
2013/4/4 2013078459 特許 感光性樹脂組成物
2013/3/29 2013074399 特許 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/29 2013074289 特許 処理方法及び処理装置
2013/3/29 2013072001 特許 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法
2013/3/28 2013070435 特許 基板の処理方法
2013/3/26 2013064407 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/26 2017146885 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/26 2013064408 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/25 2013062865 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/25 2013062866 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/25 2013062887 特許 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
2013/3/25 2013062864 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/25 2013063063 特許 基板の処理方法
2013/3/22 2013060744 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/22 2013060999 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/18 2018078713 特許 高分子化合物の製造方法
2013/3/12 2013049068 特許 感放射線性樹脂組成物
2013/3/8 2013047374 特許 接着剤組成物、接着フィルム、及び貼付方法
2013/3/7 2013045618 特許 拡散剤組成物、及び不純物拡散層の形成方法
2013/3/4 2013042137 特許 硬化性組成物
2013/3/4 2013042223 特許 硬化性組成物
2013/3/1 2013041066 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/1 2013041065 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/1 2013041067 特許 高分子化合物の重合方法、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/3/1 2013041064 特許 レジストパターン形成方法
2013/2/28 2013039667 特許 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物
2013/2/28 2017091862 特許 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物
2013/2/28 2014502362 特許 貼付装置
2013/2/27 2013037926 特許 金属含有ナノ粒子の製造方法
2013/2/27 2013037927 特許 金属錯体担持メソポーラス材料の製造方法
2013/2/26 2013036395 特許 基板の処理方法
2013/2/25 2013034836 特許 塗布装置及び塗布方法
2013/2/22 2013033563 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法、及びパターン形成方法、並びにトップコート材料
2013/2/20 2013031165 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法
2013/2/20 2013031420 特許 パターン形成方法
2013/2/20 2013031283 特許 相分離構造を含む構造体の製造方法、ガイドパターン形成方法
2013/2/18 2013028769 特許 現像液、及び感光性樹脂組成物の現像処理方法
2013/2/14 2013027124 特許 封止用樹脂組成物、表示装置、及び光半導体装置
2013/2/14 2013027125 特許 ガラス基板平坦化材料、平坦化ガラス基板、及び平坦化ガラス基板の製造方法
2013/2/14 2013026856 特許 パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池
2013/2/13 2013026082 特許 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、及び表示装置
2013/2/13 2013026074 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、ラジカル重合開始剤、化合物の製造方法、重合体
2013/2/8 2013023600 特許 顔料分散液及びそれを用いた感光性樹脂組成物の製造方法
2013/2/8 2013023884 特許 レジストパターン形成方法
2013/2/8 2017092477 特許 レジストパターン形成方法
2013/2/8 2013023741 特許 パターン形成装置
2013/2/5 2013020932 特許 下地剤、ブロックコポリマーを含む層のパターン形成方法
2013/2/5 2013020890 特許 搬送ハンド、搬送装置および搬送方法
2013/2/5 2013020941 特許 化合物、高分子化合物、レジスト組成物、レジストパターン形成方法
2013/2/5 2013020837 特許 インプリントによるパターン形成方法
2013/2/5 2013020895 特許 貼合装置および貼り合わせ方法
2013/2/4 2013019794 特許 拡散剤組成物および不純物拡散層の形成方法
2013/1/22 2013009505 特許 レジストパターン形成方法
2013/1/21 2013008683 特許 ポジ型ホトレジスト組成物、ホトレジスト積層体、ホトレジストパターンの製造方法、及び接続端子の製造方法
2013/1/21 2013008298 特許 絶縁膜形成用組成物、絶縁膜の製造方法、及び絶縁膜
2013/1/18 2013007899 特許 水性分散液及び水性分散液の製造方法
2013/1/18 2013007898 特許 含窒素デンドリマー化合物のミセルの水性分散液の製造方法
2013/1/15 2013004963 特許 剥離用組成物、剥離用組成物の製造方法、及びその利用
2013/1/11 2013557442 特許 処理方法及び処理装置
2013/1/11 2013003930 特許 レジスト組成物、レジストパターン形成方法

東京応化工業株式会社の政府届出情報

  • 経済産業省
    アルコール事業
  • 経済産業省
    ＰＲＴＲ：化学工業

東京応化工業株式会社の政府表彰履歴

  • 経済産業省   
    ＧＮＴ企業１００選：半導体用フォトレジスト（基盤を焼き付ける薬品）
  • 厚生労働省   
    両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表
近隣（神奈川県川崎市中原区）の法人情報
  • トランセンデンス株式会社
    トランセンデンス株式会社の所在地は神奈川県川崎市中原区小杉町３丁目１３０１番地エクラスタワー武蔵小杉２６０２で、2024-04-22に法人番号：8020001156815が指定されました。
  • 合同会社ＦＯＯＴＰＩＴｊａｐａｎ
    合同会社ＦＯＯＴＰＩＴｊａｐａｎの所在地は神奈川県川崎市中原区宮内２丁目１７番２４号で、2024-04-22に法人番号：2020003025957が指定されました。
  • ３Ｒ株式会社
    ３Ｒ株式会社の所在地は神奈川県川崎市中原区木月１丁目２４番１０号中田ビル２階で、2024-02-14に法人番号：3020001155763が指定されました。
  • 原アセットマネジメント株式会社
    原アセットマネジメント株式会社の所在地は神奈川県川崎市中原区下沼部１８８６番地８で、2015-10-05に法人番号：7020001104469が指定されました。
  • 株式会社グリーン倶楽部
    株式会社グリーン倶楽部の所在地は神奈川県川崎市中原区下小田中６丁目５番２１号サーパス武蔵中原２０２で、2015-10-05に法人番号：5020001082808が指定されました。
  • 有限会社わたや
    有限会社わたやの所在地は神奈川県川崎市中原区下小田中３丁目７番９号で、2015-10-05に法人番号：8020002085550が指定されました。
  • 株式会社トクウエ・シューレ
    株式会社トクウエ・シューレの所在地は神奈川県川崎市中原区木月１丁目３１番３号で、2015-10-05に法人番号：5020001104289が指定されました。
  • 株式会社青山
    株式会社青山の所在地は神奈川県川崎市中原区上新城２丁目１４番２３号アドヴァンススクエア武蔵新城Ａ－４０３で、2015-10-05に法人番号：1020001077910が指定されました。
  • 富士通株式会社
    富士通株式会社の所在地は神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号で、2015-10-05に法人番号：1020001071491が指定されました。
  • 株式会社創成建設
    株式会社創成建設の所在地は神奈川県川崎市中原区井田杉山町１３番１７－２０１号で、2024-04-18に法人番号：4020001156703が指定されました。
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