上野製薬株式会社 - 東京都千代田区

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上野製薬株式会社の基本データ

商号又は名称 上野製薬株式会社
商号又は名称（フリガナ） ウエノセイヤク
法人番号 1120001077363
法人種別 株式会社
都道府県 東京都
市区町村 千代田区
郵便番号 〒1020093
登記住所 東京都千代田区平河町２丁目５番６号
最寄り駅 東京メトロ有楽町線ほか 永田町駅 0.2km 徒歩2分以上
登録年月日 2019/12/03
更新年月日 2019/12/10
更新区分 国内所在地の変更
概要 上野製薬株式会社の法人番号は1120001077363です。
上野製薬株式会社の法人種別は"株式会社"です。
商号又は名称のヨミガナはウエノセイヤク です。
登記上の所在地は、2019/12/10現在 〒1020093 東京都千代田区平河町２丁目５番６号 となっています。
"東京メトロ有楽町線ほか 永田町駅 0.2km 徒歩2分以上" が最寄り駅の情報となります。
位置情報：東京都千代田区平河町２丁目５番６号

上野製薬株式会社周辺の天気情報

千代田区の予測雨量
04/24 16:05現在0.35（mm/h） 04/24 17:05予測0（mm/h）
東京都 東京 の天気
今日 04月24日(水) 明日 04月25日(木)
雨  雨 : 最高 17 ℃ 最低  - ℃ 晴時々曇  晴時々曇 : 最高 26 ℃ 最低 14 ℃
　紀伊半島付近には前線を伴った低気圧があって、東北東へ進んでいます。関東甲信地方は湿った空気の影響を受けています。 　東京地方は、おおむね雨となっています。 　２４日は、前線を伴った低気圧が東海道沖へ進み、湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、雨となるでしょう。伊豆諸島では雨で雷を伴い激しく降る所がある見込みです。 　２５日は、前線を伴った低気圧がはじめ関東の沿岸を北東に進みますが、次第に東シナ海に中心を持つ高気圧に覆われる見込みです。このため、晴れ時々曇りとなるでしょう。伊豆諸島では雨で雷を伴う所がある見込みです。 【関東甲信地方】 　関東甲信地方は、雨や曇りとなっています。 　２４日は、前線を伴った低気圧が東海道沖へ進み、湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、雨や曇りで、雷を伴う所があり、伊豆諸島では激しく降るでしょう。 　２５日は、前線を伴った低気圧がはじめ関東の沿岸を北東に進みますが、次第に東シナ海に中心を持つ高気圧に覆われる見込みです。このため、はじめ曇りや雨で雷を伴う所がありますが、次第に晴れてくるでしょう。 　関東地方と伊豆諸島の海上では、２
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変更履歴

  • 2019-12-03  [ 国内所在地の変更 ]
    東京都千代田区平河町２丁目５番６号へ所在地が変更されました。
  • 2015-10-05  [ 新規 ]
    上野製薬株式会社［大阪府大阪市中央区高麗橋２丁目４番８号］の法人番号が新規登録されました。

上野製薬株式会社の法人詳細データ

法人名ふりがな うえのせいやく
従業員数 308人
企業規模 男性：266人  女性：44人
事業概要 <化学工業薬品> 化粧品・液晶ポリマーの原料・スーパーエンジニアリングプラスチック他の研究開発・製造販売

上野製薬株式会社の特許情報  64件

出願年月日 出願番号 特許分類 タイトル
2019/4/16 2019077598 特許 液晶ポリエステル樹脂
2019/3/13 2019045860 特許 樹脂組成物
2019/3/13 2019045859 特許 樹脂組成物
2019/2/25 2019031402 特許 ポリエチレン樹脂組成物
2019/2/4 2019018038 特許 成形材料
2019/1/31 2019015815 特許 液晶ポリマー
2018/10/15 2018194582 特許 ５，５’－メチレンジサリチル酸の製造方法
2018/10/15 2018194583 特許 ２，６－ナフタレンジカルボン酸ジアリルの製造方法
2018/9/18 2018173831 特許 マスターバッチ
2018/8/29 2018160087 特許 １，３－ビス（４－メチルベンゾイルオキシ）ベンゼン及びその製造方法
2018/8/29 2018160088 特許 ジエステル化合物およびその製造方法
2018/6/13 2018113056 特許 ポリプロピレン樹脂組成物
2018/6/13 2018113058 特許 ポリプロピレン樹脂組成物
2018/6/13 2018113057 特許 ポリプロピレン樹脂組成物
2018/5/16 2018094880 特許 害虫忌避剤
2018/4/24 2018083321 特許 誘電特性に優れた液晶ポリエステル樹脂
2018/4/24 2018083325 特許 機械特性と誘電特性に優れた液晶ポリエステル樹脂
2018/4/24 2018083326 特許 低温成形加工性と誘電特性に優れた液晶ポリエステル樹脂
2018/4/24 2018083327 特許 機械強度および誘電特性に優れた液晶ポリエステル樹脂
2018/1/26 2018011345 特許 液晶ポリエステル樹脂組成物
2018/1/26 2018011346 特許 液晶ポリエステル樹脂組成物
2017/11/29 2017229237 特許 電子部品用ポリメチルペンテン樹脂組成物、および該樹脂組成物から構成される電子部品
2017/11/21 2017223500 特許 ポリアミド樹脂組成物
2017/10/31 2017211066 特許 ２，６－ナフタレンジカルボン酸の製造方法
2017/10/18 2017202083 特許 液晶ポリエステル樹脂組成物
2017/9/27 2017186784 特許 ポリプロピレン樹脂組成物
2017/9/27 2017186777 特許 自動車外装部品
2017/8/30 2017165434 特許 液晶ポリエステル樹脂
2017/8/29 2017164558 特許 蓋部材用ポリエチレン樹脂組成物
2017/8/29 2017164560 特許 フィルム
2017/7/28 2017146913 特許 ６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸アルケニルエステルおよびその製造方法
2017/7/28 2017146915 特許 ６－（２－オキシラニルメトキシ）－２－ナフトエ酸アルケニルエステルおよびその製造方法
2017/7/28 2017146901 特許 ２－ナフタレンカルボン酸アミド化合物およびその製造方法
2017/5/30 2017107023 特許 液晶ポリマー組成物
2017/5/30 2021076127 特許 液晶ポリマー組成物
2017/5/19 2017100090 特許 表面改質方法、超音波伝達部材および表面改質装置
2017/3/31 2017072401 特許 繊維製品
2017/3/31 2017072389 特許 フィルム
2017/3/31 2017072384 特許 ペレット
2017/3/31 2017072408 特許 中空成形体
2017/3/27 2017061738 特許 芳香族化合物およびその製造方法
2017/3/27 2017061744 特許 芳香族化合物およびその製造方法
2017/2/23 2017032246 特許 ポリエチレン樹脂組成物
2016/12/12 2016240132 特許 ４－ヒドロキシ安息香酸ヘキシルの製造方法
2016/12/8 2016238645 特許 液晶ポリエステル樹脂組成物
2016/11/15 2016222566 特許 液晶ポリマー組成物
2016/9/28 2016190110 特許 ２－エチル－４’－ヒドロキシヘキサノフェノンの製造方法
2016/9/28 2016190107 特許 ２－エチル－ヒドロキシヘキサノフェノンまたはその塩
2016/9/16 2016182243 特許 ジグリシジル化合物の精製方法
2016/9/16 2016182242 特許 ジグリシジル化合物の製造方法
2016/7/29 2016149973 特許 液晶ポリマー組成物
2016/7/29 2016149976 特許 液晶ポリマー組成物
2016/7/21 2016143471 特許 液晶ポリマー
2016/6/16 2016119677 特許 熱可塑性ポリエステル樹脂組成物およびその成形品
2016/5/30 2016107679 特許 ポリメチルペンテン樹脂組成物
2016/5/30 2016107680 特許 熱可塑性樹脂組成物
2016/5/13 2016097288 特許 芽胞形成菌の芽胞発芽増殖抑制剤及び芽胞発芽増殖抑制方法
2016/3/29 2016065386 特許 液晶ポリマー組成物
2016/3/24 2016060482 特許 ポリエチレンテレフタレート樹脂組成物
2016/2/25 2016034199 特許 ４－ヒドロキシ安息香酸長鎖エステルの精製方法
2015/11/25 2015229432 特許 洗浄用部材および該洗浄用部材を備える超音波洗浄機
2015/9/9 2015177811 特許 液晶ポリマー組成物
2015/4/30 2015093389 特許 ４－ヒドロキシ安息香酸長鎖エステルの製造方法
2013/2/1 2013018404 特許 ポリプロピレン樹脂組成物

上野製薬株式会社の政府届出情報

  • 経済産業省
    アルコール事業
  • 経済産業省
    ＰＲＴＲ：化学工業

上野製薬株式会社の政府表彰履歴

  • 厚生労働省   
    両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表
近隣（東京都千代田区）の法人情報
  • 日光Ｐｌｕｓ２２ホールディング特定目的会社
    日光Ｐｌｕｓ２２ホールディング特定目的会社の所在地は東京都千代田区丸の内３丁目１番１号東京共同会計事務所内で、2024-04-23に法人番号：9010005038217が指定されました。
  • 番町キャピタル合同会社
    番町キャピタル合同会社の所在地は東京都千代田区四番町４番地６パークコート千代田四番町１２０１号で、2024-04-23に法人番号：9010003043581が指定されました。
  • 合同会社ＲＥＣＦ電子募集１号
    合同会社ＲＥＣＦ電子募集１号の所在地は東京都千代田区丸の内２丁目２番１号岸本ビル１０階で、2024-04-23に法人番号：8010003043558が指定されました。
  • 株式会社トニーコンサルティング
    株式会社トニーコンサルティングの所在地は東京都千代田区丸の内３丁目２番２号丸の内ビル２階で、2024-04-23に法人番号：8010001244158が指定されました。
  • 合同会社ＡＬＥＲＯ８２
    合同会社ＡＬＥＲＯ８２の所在地は東京都千代田区神田錦町１丁目２１番１号で、2024-04-23に法人番号：7010003043559が指定されました。
  • ＩＮＦ蓄電所１号合同会社
    ＩＮＦ蓄電所１号合同会社の所在地は東京都千代田区富士見２丁目１０番２号で、2024-04-23に法人番号：7010003043550が指定されました。
  • Ａｋｅｓａ合同会社
    Ａｋｅｓａ合同会社の所在地は東京都千代田区丸の内１丁目８番３号丸の内トラストタワー本館２０階で、2024-04-23に法人番号：6010003043535が指定されました。
  • 株式会社エスエス
    株式会社エスエスの所在地は東京都千代田区神田司町２丁目５番地ＤｅＬＣＣＳ神田大手町２０１号で、2024-04-23に法人番号：6010001244201が指定されました。
  • ＤＨＦ３一般社団法人
    ＤＨＦ３一般社団法人の所在地は東京都千代田区丸の内３丁目１番１号東京共同会計事務所内で、2024-04-23に法人番号：5010005038237が指定されました。
  • 半導体後工程自動化・標準化技術研究組合
    半導体後工程自動化・標準化技術研究組合の所在地は東京都千代田区永田町２丁目１０番３号で、2024-04-23に法人番号：5010005038212が指定されました。
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