商号又は名称 | 東洋合成工業株式会社 | |
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商号又は名称(フリガナ) | トウヨウゴウセイコウギョウ | |
法人番号 | 6040001027017 | |
法人種別 | 株式会社 | |
都道府県 | 千葉県 | |
市区町村 | 市川市 | |
郵便番号 | 〒2720012 | |
登記住所 | 千葉県市川市上妙典1603番地 | |
最寄り駅 | JR京葉線(二俣連絡線) 二俣新町駅 1.3km 徒歩18分以上 | |
登録年月日 | 2015/10/05 | |
更新年月日 | 2019/08/01 | |
更新区分 | 新規 | |
概要 | 東洋合成工業株式会社の法人番号は6040001027017です。 東洋合成工業株式会社の法人種別は"株式会社"です。 商号又は名称のヨミガナはトウヨウゴウセイコウギョウ です。 登記上の所在地は、2019/08/01現在 〒2720012 千葉県市川市上妙典1603番地 となっています。 "JR京葉線(二俣連絡線) 二俣新町駅 1.3km 徒歩18分以上" が最寄り駅の情報となります。 東洋合成工業株式会社は、2015/10/05に法人番号が新規登録されています。 |
市川市の予測雨量 | |
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04/25 23:05現在0(mm/h) | 04/26 00:05予測0(mm/h) |
千葉県 千葉 の天気 | |
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今日 04月25日(木) | 明日 04月26日(金) |
晴時々曇 : 最高 24 ℃ 最低 - ℃ | 晴時々曇 : 最高 26 ℃ 最低 15 ℃ |
三陸沖には低気圧があって北東へ進んでおり、前線が伊豆諸島付近を通って南西諸島にのびています。 千葉県は、晴れや曇りとなっています。 25日は、前線が伊豆諸島付近を南下し、次第に高気圧に覆われるため、晴れ時々曇りとなるでしょう。 26日は、高気圧に覆われますが、湿った空気の影響を受けるため、晴れ時々曇りとなる見込みです。また、黄砂が観測される可能性があります。 千葉県の太平洋沿岸の海上では、25日は、うねりを伴い波が高いでしょう。船舶は高波に注意してください。26日は、うねりを伴い波がやや高い見込みです。 |
代表者名 | 代表取締役社長 木 村 有 仁 |
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法人名ふりがな | とうようごうせいこうぎょう |
資本金 | 1,618,888,000円 |
従業員数 | 939人 |
企業規模 | 男性:805人 女性:134人 |
事業概要 | 1.有機工業薬品・有機溶剤等の製造並びに販売 2.画像形成用の感光性材料の製造並びに販売 3.電子表示機器の材料等の開発、製造並びに販売 4.電池材料ならびに電気二重層材料等の研究開発、製造並びに販売 5.酵素蛋白、細胞を特定形状化するための感光性樹脂の研究開発、応用品の製造並びに販売 6.倉庫業(液体化学品の保管管理) 7.貨物運送取扱業 |
企業ホームページ | http://www.toyogosei.co.jp |
企業名もしくは出資者 | 出資比率(%) |
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木村 有仁 | 13.79 |
木村 愛理 | 7.35 |
SSBTC CLIENT OMNIBUS ACCOUNT(常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部) | 7.31 |
日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) | 6.03 |
株式会社日本カストディ銀行(信託口) | 5.29 |
STATE STREET BANK AND TRUST COMPANY FOR STATE STREET BANK INTERNATIONAL GMBH, LUXEMBOURG BRANCH ON BEHALF OF ITS CLIENTS : CLIENT OMNI OM25(常任代理人 香港上海銀行東京支店 カストディ業務部) | 3.86 |
株式会社千葉銀行 | 3.76 |
株式会社きらぼし銀行 | 3.75 |
あいおいニッセイ同和損害保険株式会社 | 3.13 |
木村 正子 | 2.59 |
当期(円) | |
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売上高 | 34,156,802,000 |
経常利益又は経常損失(△) | 5,122,100,000 |
当期純利益又は当期純損失(△) | 3,827,274,000 |
資本金 | 1,618,888,000 |
純資産 | 19,641,838,000 |
総資産 | 51,105,418,000 |
従業員数 | 849 人 |
1期前(円) | |
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売上高 | 33,144,669,000 |
経常利益又は経常損失(△) | 4,794,194,000 |
当期純利益又は当期純損失(△) | 3,457,424,000 |
資本金 | 1,618,888,000 |
純資産 | 16,061,668,000 |
総資産 | 46,886,053,000 |
従業員数 | 790 人 |
2期前(円) | |
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売上高 | 27,164,079,000 |
経常利益又は経常損失(△) | 2,982,424,000 |
当期純利益又は当期純損失(△) | 2,345,962,000 |
資本金 | 1,618,888,000 |
純資産 | 12,790,696,000 |
総資産 | 43,518,556,000 |
従業員数 | 728 人 |
3期前(円) | |
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売上高 | 24,455,632,000 |
経常利益又は経常損失(△) | 2,061,864,000 |
当期純利益又は当期純損失(△) | 1,852,797,000 |
資本金 | 1,618,888,000 |
純資産 | 10,569,291,000 |
総資産 | 39,130,517,000 |
従業員数 | 688 人 |
4期前(円) | |
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売上高 | 22,975,020,000 |
経常利益又は経常損失(△) | 1,567,860,000 |
当期純利益又は当期純損失(△) | 1,171,026,000 |
資本金 | 1,618,888,000 |
純資産 | 8,841,235,000 |
総資産 | 36,865,948,000 |
従業員数 | 656 人 |
平均勤続年数(男女) | 男性:20年 女性:16年 |
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労働者に占める女性労働者の割合 | 33% |
出願年月日 | 出願番号 | 特許分類 | タイトル |
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2019/4/19 | 2019080437 | 特許 | オニウム塩、組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2018/9/26 | 2019550881 | 特許 | 光酸発生剤、レジスト組成物及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法 |
2018/4/17 | 2018078963 | 特許 | 組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2018/1/31 | 2018015623 | 特許 | スルホニウム塩、光酸発生剤、それを含む組成物、及び、デバイスの製造方法 |
2018/1/31 | 2018015151 | 特許 | アルケニル化合物の合成方法及び製造方法 |
2017/12/14 | 2017239829 | 特許 | 光酸発生剤、レジスト組成物、及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法 |
2017/10/13 | 2018546305 | 特許 | 組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2017/5/26 | 2017104946 | 特許 | ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2017/5/12 | 2017095827 | 特許 | ヨードニウム塩化合物、それを含有する光酸発生剤及び組成物、並びに、デバイスの製造方法 |
2017/5/10 | 2018517053 | 特許 | 塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子 |
2017/4/26 | 2018514653 | 特許 | レジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2017/3/10 | 2018504623 | 特許 | 担持型金属触媒 |
2016/12/26 | 2017558340 | 特許 | 化合物及び有機材料の製造方法 |
2016/12/19 | 2017558936 | 特許 | ポリマー、感放射線性組成物、化合物及びデバイスの製造方法 |
2016/9/29 | 2017543536 | 特許 | ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
2016/9/12 | 2016177982 | 特許 | 部品の製造方法 |
2016/8/24 | 2017536463 | 特許 | デバイスの製造方法及び組成物 |
2016/1/15 | 2016006572 | 特許 | 光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物 |
2015/11/26 | 2016562407 | 特許 | スルホン酸誘導体、それを用いた光酸発生剤、レジスト組成物及びデバイスの製造方法 |
2015/9/12 | 2016547811 | 特許 | 高分子担持遷移触媒 |
2015/5/13 | 2016519296 | 特許 | オニウム塩、光酸発生剤、感光性樹脂組成物及びデバイスの製造方法 |
2015/5/8 | 2015095511 | 特許 | レジスト組成物、スルホン酸誘導体、該スルホン酸誘導体の製造方法及びデバイスの製造方法 |
2015/3/30 | 2015069789 | 特許 | 組成物及び部品の製造方法 |
2014/9/19 | 2015537991 | 特許 | マイクロ流路を有する構造体の製造方法 |
2014/8/7 | 2016503476 | 特許 | 化学増幅フォトレジスト組成物及び装置の製造方法 |
2014/6/23 | 2015561449 | 特許 | 化学増幅型レジスト組成物および装置の製造方法 |
2014/6/6 | 2014118092 | 特許 | ナノインプリント用組成物、部材の製造方法及びデバイスの製造方法 |
2014/5/13 | 2015555473 | 特許 | 化学増幅レジスト組成物および化学増幅レジスト組成物を用いてデバイスを製造する方法 |
2014/5/9 | 2014098044 | 特許 | 樹脂、樹脂の製造方法及び部品 |
2014/4/23 | 2014089632 | 特許 | 樹脂モールド及び複数の部品の製造方法 |
2014/3/3 | 2015504302 | 特許 | 組成物、樹脂モールド、光インプリント方法、光学素子の製造方法、及び電子素子の製造方法 |
2014/1/20 | 2014557535 | 特許 | 細胞培養用基材及び細胞配列培養用基材の製造方法並びにスクリーニング方法 |
2013/12/25 | 2014554481 | 特許 | 硬化性樹脂組成物、インプリント用樹脂モールド、光インプリント方法、半導体集積回路の製造方法及び微細光学素子の製造方法並びにフッ素化ウレタン(メタ)アクリレート |
2013/10/17 | 2014542182 | 特許 | 液晶組成物、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法 |
2013/2/28 | 2014510074 | 特許 | 感光性化合物、感光性樹脂及び感光性組成物 |