株式会社フジミインコーポレーテッド - 愛知県清須市

  1. TOP
  2. 愛知県
  3. 清須市
  4. 株式会社フジミインコーポレーテッド

株式会社フジミインコーポレーテッドの基本データ

商号又は名称 株式会社フジミインコーポレーテッド
商号又は名称（フリガナ） -
法人番号 7180001045697
法人種別 株式会社
都道府県 愛知県
市区町村 清須市
郵便番号 〒4520008
登記住所 愛知県清須市西枇杷島町地領２丁目１番地１
最寄り駅 JR東海道本線ほか 枇杷島駅 0.8km 徒歩11分以上
登録年月日 2015/10/05
更新年月日 2018/07/11
更新区分 新規
概要 株式会社フジミインコーポレーテッドの法人番号は7180001045697です。
株式会社フジミインコーポレーテッドの法人種別は"株式会社"です。
登記上の所在地は、2018/07/11現在 〒4520008 愛知県清須市西枇杷島町地領２丁目１番地１ となっています。
"JR東海道本線ほか 枇杷島駅 0.8km 徒歩11分以上" が最寄り駅の情報となります。
周辺に4件のカフェ情報 [ぼんぼん、積み木、ロン、ラトルメンタ] があります。
株式会社フジミインコーポレーテッドは、2015/10/05に法人番号が新規登録されています。
位置情報：愛知県清須市西枇杷島町地領２丁目１番地１
カフェ 株式会社フジミインコーポレーテッド周辺のカフェなど
Powered by ぐるなび

株式会社フジミインコーポレーテッド周辺の天気情報

清須市の予測雨量
04/27 01:05現在0.35（mm/h） 04/27 02:05予測0（mm/h）
愛知県 名古屋 の天気
今日 04月26日(金) 明日 04月27日(土)
曇り  曇り : 最高 26 ℃ 最低  - ℃ 曇り  曇り : 最高 24 ℃ 最低 16 ℃
　東海地方は、高気圧に覆われていますが、湿った空気の影響を受けています。 　東海地方は、おおむね薄曇りとなっています。 　２６日の東海地方は、高気圧に覆われるため、はじめ晴れる所もありますが、気圧の谷や湿った空気の影響でおおむね曇りとなるでしょう。三重県では、夜は雨の降る所がある見込みです。また、東海地方では黄砂が観測される可能性があります。 　２７日の東海地方は、気圧の谷や湿った空気の影響でおおむね曇りとなり、雨の降る所があるでしょう。
Powered by お天気Webサービス

株式会社フジミインコーポレーテッドの株式上場データ

マーケット 東証一部
業種 ガラス・土石
証券コード5384
上場年月日1995年4月18日
決算月3月末日

株式会社フジミインコーポレーテッドの法人詳細データ

代表者名 代表取締役社長　　関　敬史
法人名ふりがな ふじみいんこーぽれーてっど
資本金 4,753,000,000円
従業員数 732人
事業概要 研磨材等の製造販売

株式会社フジミインコーポレーテッドの大株主の状況

企業名もしくは出資者 出資比率（％）
有限会社コマ 17.73
日本マスタートラスト信託銀行株式会社(信託口) 10.86
ＳＳＢＴＣ ＣＬＩＥＮＴ ＯＭＮＩＢＵＳ ＡＣＣＯＵＮＴ （常任代理人　香港上海銀行東京支店） 5.99
株式会社日本カストディ銀行 (信託口) 5.66
株式会社三菱ＵＦＪ銀行 2.89
フジミ取引先持株会 2.58
日本生命保険相互会社 （常任代理人　日本マスタートラスト信託銀行株式会社） 2.54
一般財団法人越山科学技術振興財団 2.38
株式会社かんぽ生命保険 （常任代理人　株式会社日本カストディ銀行） 1.88
第一生命保険株式会社 （常任代理人　株式会社日本カストディ銀行） 1.87

株式会社フジミインコーポレーテッドの経営指標の推移

 当期 第71期（自　2022年４月１日　至　2023年３月31日）
当期（円）
売上高 44,709,000,000
経常利益又は経常損失（△） 12,233,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 10,197,000,000
資本金 4,753,000,000
純資産 57,613,000,000
総資産 67,006,000,000
従業員数 732 人
1期前（円）
売上高 39,792,000,000
経常利益又は経常損失（△） 10,915,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 8,485,000,000
資本金 4,753,000,000
純資産 52,886,000,000
総資産 63,595,000,000
従業員数 693 人
2期前（円）
売上高 32,601,000,000
経常利益又は経常損失（△） 7,021,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 5,468,000,000
資本金 4,753,000,000
純資産 48,084,000,000
総資産 56,387,000,000
従業員数 670 人
3期前（円）
売上高 28,710,000,000
経常利益又は経常損失（△） 4,804,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 3,589,000,000
資本金 4,753,000,000
純資産 44,815,000,000
総資産 51,074,000,000
従業員数 636 人
4期前（円）
売上高 28,401,000,000
経常利益又は経常損失（△） 4,927,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 4,082,000,000
資本金 4,753,000,000
純資産 43,259,000,000
総資産 49,848,000,000
従業員数 588 人

株式会社フジミインコーポレーテッドの職場データ

管理職全体人数（男女計） 103人
女性管理職人数 4人

株式会社フジミインコーポレーテッドの特許情報  305件

出願年月日 出願番号 特許分類 タイトル
2021/10/5 2021123422 商標 Ｆ－ＴｉＰ
2020/1/22 2020007054 商標 ＭＩＲＡＦＬＥＸ
2019/9/30 2019178322 特許 研磨用組成物
2019/3/29 2019068285 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法
2019/3/29 2019066880 特許 研磨用組成物
2019/3/28 2019064654 特許 シリカゾルの製造方法
2019/3/28 2020547926 特許 化粧料用白色顔料、化粧料
2019/3/28 2020547927 特許 化粧料用白色顔料、化粧料
2019/3/28 2020511037 特許 化粧料用白色顔料、化粧料
2019/3/28 2019064631 特許 シリカゾルの製造方法
2019/3/27 2019060845 特許 粉末積層造形用粉末材料及び造形物の製造方法
2019/3/26 2020510961 特許 炭化ケイ素焼結体用分散体、これを用いた炭化ケイ素焼結体用グリーンシートおよび炭化ケイ素焼結体用プリプレグ材、ならびにその製造方法
2019/3/26 2019058827 特許 表面処理組成物、その製造方法、表面処理方法および半導体基板の製造方法
2019/3/26 2020510875 特許 研磨用組成物
2019/3/22 2019054905 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、および半導体基板の製造方法
2019/3/22 2019055141 特許 単体シリコンの研磨速度向上剤
2019/1/29 2019013109 特許 被覆粒子
2019/1/22 2019008736 特許 研磨用組成物および研磨システム
2019/1/16 2019005306 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、および半導体基板の製造方法
2018/11/19 2019559511 特許 研磨用組成物および研磨方法
2018/11/12 2018212471 特許 粉末積層造形に用いるための粉末材料、これを用いた粉末積層造形法および造形物
2018/11/12 2018212472 特許 粉末積層造形に用いるための粉末材料、これを用いた粉末積層造形法および造形物
2018/9/28 2018185711 特許 研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法
2018/9/28 2019528934 特許 水酸化アルミニウム被覆炭化珪素粒子粉体の製造方法、ならびに当該粉体および分散媒を含む分散体の製造方法
2018/9/28 2018185411 特許 研磨用組成物、研磨用組成物調製用キットおよび磁気ディスク基板の製造方法
2018/9/28 2018184338 特許 研磨用組成物およびその利用
2018/9/26 2018180324 特許 研磨用組成物、その製造方法、ならびに研磨用組成物を用いた研磨方法およびこれを含む半導体基板の製造方法
2018/9/25 2018178726 特許 タングステン溶解抑制剤、ならびにこれを用いた研磨用組成物および表面処理組成物
2018/9/20 2018176459 特許 研磨用組成物
2018/9/6 2018166847 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法および半導体基板の製造方法
2018/9/4 2018165036 特許 研磨用組成物および研磨システム
2018/8/13 2019540849 特許 研磨用組成物およびシリコン基板研磨方法
2018/8/10 2018151498 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法並びに基板の製造方法
2018/8/6 2018147701 特許 粉末材料
2018/7/31 2018143984 特許 研磨用組成物、その製造方法および研磨用組成物を用いた研磨方法
2018/7/31 2018143847 特許 表面処理組成物、その製造方法、およびこれを用いた表面処理方法
2018/7/18 2019530579 特許 基板の研磨方法および研磨用組成物セット
2018/7/17 2018134320 特許 三次元造形物の製造方法と三次元造形システム
2018/7/17 2018134293 特許 三次元造形方法、三次元造形装置およびこれに用いる基材
2018/5/23 2019520288 特許 研磨用組成物およびこれを用いた研磨方法
2018/3/30 2018069650 特許 シリコンウェーハの研磨方法および研磨用組成物
2018/3/30 2018070141 特許 研磨用組成物、パッド表面調整用組成物およびその利用
2018/3/30 2018067988 特許 研磨用組成物および研磨方法
2018/3/29 2018063612 特許 砥粒分散液、研磨用組成物キットおよび磁気ディスク基板の研磨方法
2018/3/29 2018065206 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに磁気研磨方法
2018/3/28 2018062733 特許 溶射材並びにコーティング皮膜の製造方法
2018/3/28 2018061561 特許 研磨用組成物
2018/3/27 2018059723 特許 研磨用組成物
2018/3/26 2018058698 特許 研磨用組成物および研磨方法
2018/3/26 2018058603 特許 研磨用組成物
2018/3/23 2018055682 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法、研磨方法、および半導体基板の製造方法
2018/3/23 2018056785 特許 溶射用スラリー
2018/3/20 2018053106 特許 研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法
2018/3/20 2020018438 特許 リン酸チタン粉体からなる化粧料用白色顔料
2018/3/20 2019509607 特許 リン酸チタン粉体の製造方法、化粧料用白色顔料
2018/3/19 2019507663 特許 研磨用組成物
2018/3/14 2018046471 特許 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法
2018/2/19 2019504431 特許 表面処理組成物、およびその製造方法、ならびに表面処理組成物を用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法
2018/2/19 2019504432 特許 表面処理組成物、およびその製造方法、ならびに表面処理組成物を用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法
2018/2/6 2018568125 特許 シリコン基板中間研磨用組成物およびシリコン基板研磨用組成物セット
2018/2/1 2018567388 特許 研磨用組成物
2018/1/29 2018568079 特許 研磨用組成物、その製造方法および研磨用組成物を用いた研磨方法
2018/1/23 2019505739 特許 研磨用組成物、その製造方法ならびにこれを用いた研磨方法および基板の製造方法
2018/1/23 2019505740 特許 表面処理組成物、その製造方法、およびこれを用いた表面処理方法
2018/1/19 2019504361 特許 表面処理組成物及びその製造方法、表面処理方法、並びに半導体基板の製造方法
2017/12/22 2018559406 特許 研磨用組成物及び研磨方法
2017/12/15 2017240330 特許 フィラー及びフィラーの製造方法、並びに成形体の製造方法
2017/12/7 2018561856 特許 研磨用組成物
2017/11/15 2018552519 特許 研磨用組成物
2017/11/6 2018550196 特許 研磨用組成物及びシリコンウェーハの研磨方法
2017/11/1 2017211837 特許 アルミニウム合金材の製造方法
2017/9/29 2017191464 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板の製造方法
2017/9/29 2017191463 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板の製造方法
2017/9/29 2017190896 特許 シリカ分散液、研磨スラリーおよび研磨スラリー調製用キット
2017/9/29 2017191167 特許 研磨処理方法および研磨用組成物
2017/9/28 2017188923 特許 被覆粒子粉体の製造方法、ならびに当該被覆粒子粉体および分散媒を含む分散体の製造方法
2017/9/21 2017181451 特許 研磨用組成物の製造方法
2017/9/21 2017181070 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法
2017/9/19 2017179297 特許 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法、および半導体基板の製造方法
2017/9/19 2017179296 特許 表面処理組成物およびこれを用いた表面処理方法
2017/9/15 2018539192 特許 溶射用材料
2017/9/15 2017177989 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法並びに基板の製造方法
2017/9/15 2018539193 特許 溶射用材料
2017/9/5 2018542051 特許 カチオン変性シリカの製造方法およびカチオン変性シリカ分散体、ならびにカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物の製造方法およびカチオン変性シリカを用いた研磨用組成物
2017/8/29 2018537304 特許 研磨用組成物および研磨用組成物セット
2017/8/28 2018540930 特許 研磨用組成物、ならびにこれを用いた研磨方法および半導体基板の製造方法
2017/8/9 2018540908 特許 表面処理組成物
2017/7/21 2018531831 特許 シリコンウェーハ粗研磨用組成物の製造方法、シリコンウェーハ粗研磨用組成物セット、およびシリコンウェーハの研磨方法
2017/7/21 2018531830 特許 シリコンウェーハ粗研磨用組成物の濃縮液
2017/6/29 2018541916 特許 表面処理組成物
2017/6/13 2018529428 特許 表面処理組成物およびこれを用いた表面処理方法
2017/6/12 2018527457 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法および研磨方法
2017/6/12 2017115360 特許 フィラー、成形体、及び放熱材料
2017/6/2 2018522457 特許 滑走用具及びその製造方法
2017/3/31 2017070453 特許 研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスクの研磨方法
2017/3/31 2017072665 特許 磁気ディスク基板の研磨方法、研磨用組成物および研磨用組成物セット
2017/3/31 2017072245 特許 粉末積層造形に用いるための造形用材料
2017/3/31 2017070460 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板の製造方法
2017/3/31 2017071187 特許 マグネシウム又はマグネシウム合金の研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法
2017/3/30 2017067956 特許 研磨用組成物および研磨方法
2017/3/30 2017067969 特許 シリカゾルの製造方法
2017/3/29 2018508132 特許 カチオン変性シリカの製造方法およびカチオン変性シリカ分散体
2017/3/28 2017063773 特許 研磨用組成物
2017/3/23 2018509212 特許 研磨用組成物及びその製造方法
2017/3/22 2017056433 特許 研磨用組成物
2017/3/21 2017054333 特許 溶射用スラリー
2017/3/21 2017054335 特許 溶射皮膜の形成方法
2017/3/21 2017054334 特許 溶射用スラリー
2017/3/15 2018509000 特許 研磨用組成物
2017/3/10 2018507225 特許 金属を含む層を有する研磨対象物の研磨用組成物
2017/3/9 2018507209 特許 研磨用組成物
2017/3/8 2017044074 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに磁気研磨方法
2017/3/6 2018508867 特許 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法および半導体基板の製造方法
2017/3/2 2017039757 特許 研磨用組成物及び研磨用組成物の製造方法
2017/2/13 2018503007 特許 シリコン基板の研磨方法および研磨用組成物セット
2017/2/8 2018502985 特許 研磨用組成物およびこれを用いた研磨方法
2017/2/8 2017021540 特許 研磨用組成物
2017/2/8 2018508509 特許 研磨用組成物セット、前研磨用組成物、及びシリコンウェーハの研磨方法
2017/1/13 2017564165 特許 研磨用組成物
2016/11/7 2016217287 特許 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
2016/11/7 2020006675 特許 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
2016/9/30 2016194384 特許 研磨用組成物、およびこれを用いた研磨方法および磁気ディスク用基板の製造方法
2016/9/29 2016191908 特許 砥粒分散液の保存方法および容器入り砥粒分散液の製造方法
2016/9/29 2016191907 特許 砥粒分散液、容器入り砥粒分散液およびその製造方法
2016/9/28 2017513820 特許 研磨用組成物
2016/9/28 2016190009 特許 アルミナの処理
2016/9/23 2016185938 特許 金属を含む層を有する研磨対象物の研磨に用いられる研磨用組成物
2016/9/23 2016185783 特許 研磨用組成物
2016/9/23 2016185775 特許 表面処理組成物、ならびにこれを用いた表面処理方法および半導体基板の製造方法
2016/9/21 2017527949 特許 研磨用組成物
2016/9/21 2017543199 特許 研磨方法
2016/9/8 2016175964 特許 砥粒分散液、およびこれを含む研磨用組成物キット、ならびにこれらを用いた研磨用組成物の製造方法、研磨用組成物、研磨方法および磁気ディスク用基板の製造方法
2016/9/8 2017513821 特許 研磨用組成物およびこれを用いた研磨方法、ならびにこれらを用いた研磨済研磨対象物の製造方法
2016/8/9 2016156625 特許 表面処理組成物およびこれを用いた洗浄方法
2016/8/2 2016152270 特許 研磨材、研磨用組成物、及び研磨方法
2016/7/25 2020145869 特許 シリカゾルの製造方法
2016/7/25 2017532509 特許 シリカゾルの製造方法
2016/6/20 2016121571 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法
2016/6/15 2016065064 商標 ＣＬＥＡＬＩＴＥ
2016/5/18 2017529486 特許 研磨パッド及び研磨方法
2016/5/2 2017517905 特許 研磨方法
2016/5/2 2017517904 特許 研磨方法
2016/4/19 2017526203 特許 研磨用濡れ剤及び研磨液組成物
2016/4/1 2016074629 特許 合金材料用研磨組成物及び合金材料の研磨方法
2016/3/31 2016071477 特許 研磨用組成物
2016/3/31 2016071478 特許 研磨用組成物
2016/3/31 2016071364 特許 研磨用組成物、基板の製造方法および研磨方法
2016/3/31 2016071363 特許 研磨用組成物、基板の研磨方法および基板の製造方法
2016/3/31 2016071366 特許 磁気ディスク基板研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および研磨方法
2016/3/31 2016071365 特許 磁気ディスク基板研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および研磨方法
2016/3/30 2016069378 特許 研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板の研磨方法
2016/3/28 2016064566 特許 シリコン基板の研磨方法および研磨用組成物セット
2016/3/28 2016064156 特許 研磨用組成物、それを用いた磁気ディスク用基板の研磨方法およびその研磨方法を使用する磁気ディスク用基板の製造方法
2016/3/25 2016062151 特許 ブラスト材
2016/3/25 2016062148 特許 ブラスト研磨用スラリ
2016/3/11 2017509495 特許 研磨用組成物
2016/3/10 2016046954 特許 溶射材およびその利用
2016/3/7 2016043939 特許 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
2016/3/7 2016043941 特許 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
2016/3/7 2016043940 特許 溶射用材料、溶射皮膜および溶射皮膜付部材
2016/2/29 2016037247 特許 シリコン基板の研磨方法および研磨用組成物セット
2016/2/26 2016036183 特許 研磨方法
2016/2/26 2016036182 特許 研磨方法
2016/1/22 2017500493 特許 シリコンウェーハ研磨用組成物および研磨方法
2016/1/22 2016574646 特許 シリコンウェーハの研磨方法および表面処理組成物
2016/1/22 2020010033 特許 シリコンウェーハの研磨方法および表面処理組成物
2016/1/19 2016570654 特許 研磨用組成物
2016/1/19 2016570655 特許 変性コロイダルシリカおよびその製造方法、並びにこれを用いた研磨剤
2016/1/19 2016007810 特許 研磨用組成物及びシリコン基板の研磨方法
2016/1/19 2020005374 特許 変性コロイダルシリカおよびその製造方法、並びにこれを用いた研磨剤
2015/12/24 2015251251 特許 研磨用組成物及びシリコン基板の研磨方法
2015/12/22 2015250696 特許 粉末積層造形に用いるための造形用材料
2015/12/22 2015250694 特許 粉末積層造形に用いるための造形用材料
2015/12/22 2015250695 特許 粉末積層造形に用いるための造形用材料
2015/10/30 2015215119 特許 研磨方法およびポリシング用組成物
2015/10/30 2016556681 特許 ワークピースを研磨するための化学機械研磨装置
2015/10/20 2015206656 特許 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法
2015/10/20 2020051036 特許 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法
2015/9/30 2015195180 特許 磁気ディスク基板用研磨組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板
2015/9/30 2015195181 特許 磁気ディスク基板用研磨組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板
2015/9/29 2015192270 特許 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法
2015/9/25 2015188918 特許 溶射材料
2015/9/25 2015188833 特許 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法
2015/9/25 2015188917 特許 溶射材料
2015/9/24 2016550372 特許 研磨用組成物
2015/9/15 2015182197 特許 研磨用組成物
2015/9/3 2016546700 特許 溶射用スラリー、溶射皮膜および溶射皮膜の形成方法
2015/8/25 2015165447 特許 研磨パッド、研磨パッドのコンディショニング方法、パッドコンディショニング剤、それらの利用
2015/7/15 2015141291 特許 研磨用組成物、磁気ディスク基板製造方法および磁気ディスク基板
2015/6/30 2015131086 特許 研磨用組成物
2015/6/29 2015130439 特許 研磨方法およびポリシング用組成物
2015/6/29 2015130440 特許 研磨用組成物
2015/6/29 2015130438 特許 研磨方法およびポリシング用組成物
2015/6/22 2016529580 特許 粉末積層造形に用いる粉末材料およびそれを用いた粉末積層造形法
2015/6/22 2017130450 特許 粉末積層造形に用いる粉末材料およびそれを用いた粉末積層造形法
2015/6/22 2018084574 特許 粉末積層造形に用いる粉末材料およびそれを用いた粉末積層造形法
2015/5/22 2015048363 商標 ＭＩＲＡＦＬＥＸ
2015/5/22 2015104552 特許 研磨方法及び組成調整剤
2015/5/22 2015048364 商標 ＣＥＲＡＰＯＬＩＳＨ
2015/5/1 2016539871 特許 チタン合金材料研磨用組成物
2015/4/13 2015081700 特許 研磨材、研磨用組成物、及び研磨方法
2015/3/31 2015074441 特許 研磨物の製造方法
2015/3/31 2015074444 特許 研磨用組成物および研磨物の製造方法
2015/3/31 2015074442 特許 研磨用組成物および研磨物の製造方法
2015/3/31 2015074443 特許 研磨用組成物および研磨物の製造方法
2015/3/30 2015070071 特許 溶射材料
2015/3/23 2015059669 特許 研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法
2015/3/9 2019033232 特許 研磨用組成物、研磨方法および基板の製造方法
2015/3/9 2016508662 特許 研磨用組成物、研磨方法および基板の製造方法
2015/2/26 2019096990 特許 研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法
2015/2/24 2015033938 特許 研磨用組成物及び研磨方法
2015/2/24 2015034086 特許 溶射用粉末
2015/2/10 2015024377 特許 研磨用組成物
2014/12/26 2014265059 特許 研磨方法及びセラミック製部品の製造方法
2014/12/26 2015555489 特許 研磨用組成物、および半導体ウェハの製造方法
2014/11/11 2015550635 特許 溶射材料および溶射皮膜
2014/11/4 2015546633 特許 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物
2014/10/31 2014223108 特許 溶射用粉末、溶射皮膜の製造方法、溶射皮膜、及びロール
2014/10/31 2014223107 特許 溶射用粉末、溶射皮膜の製造方法、溶射皮膜、及びロール
2014/10/22 2014215744 特許 研磨用組成物
2014/10/6 2016236187 特許 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物
2014/10/6 2015541562 特許 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物
2014/10/2 2017130253 特許 研磨装置、研磨部材の加工又は修正用工具、研磨部材の加工又は修正方法、及び研磨部材の製造方法
2014/9/30 2014201431 特許 研磨用組成物
2014/9/30 2014201432 特許 研磨用組成物
2014/9/29 2014198547 特許 研磨用組成物及びその製造方法並びに研磨方法
2014/9/29 2014197860 特許 研磨用組成物及び研磨方法
2014/9/22 2015539213 特許 研磨用組成物およびその製造方法
2014/9/19 2015539176 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法およびシリコンウェーハ製造方法
2014/9/3 2014179162 特許 研磨用組成物の製造方法
2014/8/27 2014172977 特許 研磨方法
2014/8/11 2015537600 特許 研磨用組成物
2014/7/18 2014147494 特許 研磨用組成物
2014/7/10 2015526403 特許 研磨用組成物およびその製造方法
2014/6/24 2016089114 特許 シリコンウェーハ研磨用組成物
2014/6/24 2014129497 特許 シリコンウェーハ研磨用組成物
2014/6/18 2014125792 特許 シリコンウェーハの研磨方法、研磨用組成物および研磨用組成物セット
2014/6/12 2015530734 特許 研磨済研磨対象物の製造方法および研磨用組成物キット
2014/6/9 2014118430 特許 研磨用組成物
2014/5/28 2014110375 特許 研磨用組成物製造用キットおよびその利用
2014/5/2 2015521346 特許 シリコンウエハ研磨用組成物
2014/5/2 2016135649 特許 シリコンウエハ研磨用組成物
2014/4/16 2014085019 特許 研磨用組成物および磁気ディスク基板製造方法
2014/4/16 2014085047 特許 研磨用組成物
2014/4/14 2014082950 特許 シリコンウェーハ研磨用組成物
2014/4/14 2014082951 特許 シリコンウェーハ研磨用組成物
2014/4/4 2014078150 特許 基材ディスクの表面にニッケルリンめっき層を有する磁気ディスク基板の製造方法および研磨用組成物
2014/3/31 2014071918 特許 研磨用組成物
2014/3/28 2014069279 特許 研磨用組成物
2014/3/27 2014066901 特許 シリコン材料研磨用組成物
2014/3/27 2014066898 特許 研磨用組成物
2014/3/27 2014066617 特許 研磨用組成物、その使用方法、及び基板の製造方法
2014/3/27 2014066899 特許 研磨用組成物
2014/3/27 2017224112 特許 シリコン材料研磨用組成物
2014/3/24 2014060553 特許 研磨方法およびそれに用いられる研磨用組成物
2014/3/24 2014060607 特許 研磨方法およびそれに用いられる研磨用組成物
2014/3/14 2019076438 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット
2014/3/14 2015506749 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット
2014/3/14 2016038586 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット
2014/3/14 2016038585 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨用組成物調製用キット
2014/3/7 2015505437 特許 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法
2014/3/7 2017100681 特許 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法
2014/3/7 2015505436 特許 溶射用スラリー、及び溶射皮膜の形成方法
2014/3/7 2015505438 特許 溶射用粉末、及び溶射皮膜の形成方法
2014/2/26 2015502779 特許 コバルト除去のための研磨スラリー
2014/2/25 2014034584 特許 半導体基板を連続的に製造する方法
2014/2/19 2015508173 特許 研磨用組成物
2014/2/14 2015501431 特許 研磨用組成物および研磨物製造方法
2014/2/13 2014010264 商標 Ｆ－Ｃｕｂｅ
2014/2/10 2015500230 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法
2014/2/10 2016038583 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法
2014/1/29 2014559578 特許 表面選択性研磨組成物
2014/1/21 2014008908 特許 研磨用組成物およびその製造方法
2013/12/26 2014555457 特許 合金材料の研磨方法及び合金材料の製造方法
2013/11/27 2014557348 特許 金属酸化物含有膜付き物品
2013/10/18 2013216866 特許 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物
2013/10/9 2013211489 特許 半導体用濡れ剤及び研磨用組成物
2013/10/1 2013206848 特許 基板の製造方法
2013/10/1 2013206847 特許 研磨用組成物の試験方法
2013/10/1 2013206835 特許 研磨用組成物の製造方法および研磨物の製造方法
2013/9/30 2013204170 特許 研磨用組成物
2013/9/30 2013204467 特許 研磨用組成物およびその製造方法
2013/9/30 2013204468 特許 研磨用組成物およびその製造方法
2013/9/30 2014544389 特許 研磨用組成物
2013/9/26 2013200640 特許 研磨用組成物、研磨用組成物の製造方法およびシリコンウエハ製造方法
2013/9/13 2013190788 特許 研磨用組成物
2013/9/10 2014536768 特許 研磨用組成物
2013/8/28 2013177027 特許 研磨用組成物
2013/8/12 2014532916 特許 研磨用組成物及び基板の製造方法
2013/7/16 2014525819 特許 合金材料研磨用組成物及びそれを用いた合金材料の製造方法
2013/6/11 2015204046 特許 溶射用材料
2013/5/17 2017114079 特許 サーメット粉体物及び溶射皮膜の形成方法
2013/5/15 2013103244 特許 研磨用組成物
2013/4/19 2014512521 特許 研磨用組成物の製造方法
2013/4/19 2013088209 特許 磁気ディスク基板用研磨組成物キット
2013/4/9 2016233121 特許 研磨用組成物
2013/4/9 2014511176 特許 研磨用組成物
2013/3/19 2014506237 特許 ラッピング加工用研磨材およびそれを用いた基板の製造方法
2013/3/12 2014504910 特許 研磨用組成物及び半導体基板の製造方法
2013/3/11 2014504862 特許 研磨用組成物
2013/3/4 2014503829 特許 研磨用組成物、及び当該研磨用組成物を用いた化合物半導体基板の製造方法
2013/2/13 2013026019 特許 研磨用組成物、研磨用組成物製造方法および研磨物製造方法
2013/2/5 2013558647 特許 研磨用組成物及び半導体基板の製造方法
2013/1/16 2013554299 特許 研磨用組成物、その製造方法、希釈用原液、及びシリコン基板の製造方法
2013/1/16 2013554304 特許 研磨用組成物、その製造方法、シリコン基板の製造方法、及びシリコン基板

株式会社フジミインコーポレーテッドの政府届出情報

  • 経済産業省
    ＰＲＴＲ：窯業・土石製品製造業

株式会社フジミインコーポレーテッドの政府表彰履歴

  • 厚生労働省   
    両立支援のひろば　一般事業主行動計画公表
近隣（愛知県清須市）の法人情報
  • 合資会社岸利一商店
    合資会社岸利一商店の所在地は愛知県清須市西枇杷島町古城１丁目５番地の７で、2015-10-05に法人番号：7180003007984が指定されました。
  • 株式会社サカイ
    株式会社サカイの所在地は愛知県清須市西田中長堀９５番地で、2015-10-05に法人番号：5180001045336が指定されました。
  • 一般社団法人西名古屋医師会
    一般社団法人西名古屋医師会の所在地は愛知県清須市春日振形１２９番地春日老人福祉センター２階で、2015-10-05に法人番号：1180005004688が指定されました。
  • 株式会社プラス
    株式会社プラスの所在地は愛知県清須市阿原鴨池１４２番地で、2022-09-26に法人番号：7180001153112が指定されました。
  • 株式会社吉村組
    株式会社吉村組の所在地は愛知県清須市阿原鴨池５２番地で、2015-10-05に法人番号：9180001095542が指定されました。
  • 有限会社長瀬看板店
    有限会社長瀬看板店の所在地は愛知県清須市西枇杷島町地領２丁目７番地８で、2015-10-05に法人番号：7180002060497が指定されました。
  • 株式会社光正
    株式会社光正の所在地は愛知県清須市桃栄２丁目２３０番地で、2024-04-19に法人番号：8180001161122が指定されました。
  • 株式会社相互プラント
    株式会社相互プラントの所在地は愛知県清須市朝日貝塚１２５番地の１で、2015-10-05に法人番号：8180001025946が指定されました。
  • 株式会社三星パッケージ
    株式会社三星パッケージの所在地は愛知県清須市朝日貝塚２２９番地で、2024-04-15に法人番号：5180001160969が指定されました。
  • 三盛源電子株式会社
    三盛源電子株式会社の所在地は愛知県清須市土器野北中野２５８－１で、2023-11-10に法人番号：5010501051305が指定されました。
  •  近隣（愛知県清須市）の法人情報をもっと見る
 前の法人：株式会社ヒエジマ 株式会社マルコウ：次の法人 
法人検索
愛知県の登記新設・閉鎖法人
法人一覧表示
4月26日 に新設された清須市の法人
4月26日 に新設された愛知県の法人
4月の愛知県法人アクセスランキング
PAGE TOP ▲