日本化学工業株式会社 - 東京都江東区

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日本化学工業株式会社の基本データ

商号又は名称 日本化学工業株式会社
商号又は名称（フリガナ） -
法人番号 3010601005559
法人種別 株式会社
都道府県 東京都
市区町村 江東区
郵便番号 〒1360071
登記住所 東京都江東区亀戸９丁目１１番１号
最寄り駅 東京都営新宿線 東大島駅 0.7km 徒歩9分以上
登録年月日 2015/10/05
更新年月日 2019/04/02
更新区分 新規
概要 日本化学工業株式会社の法人番号は3010601005559です。
日本化学工業株式会社の法人種別は"株式会社"です。
登記上の所在地は、2019/04/02現在 〒1360071 東京都江東区亀戸９丁目１１番１号 となっています。
"東京都営新宿線 東大島駅 0.7km 徒歩9分以上" が最寄り駅の情報となります。
周辺に4件のカフェ情報 [リヨン エトワール、モスバーガー東大島店、ミスタードーナツ 東大島駅前、マクドナルド 東大島ダイエー店] があります。
日本化学工業株式会社は、2015/10/05に法人番号が新規登録されています。
位置情報：東京都江東区亀戸９丁目１１番１号
カフェ 日本化学工業株式会社周辺のカフェなど
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日本化学工業株式会社周辺の天気情報

江東区の予測雨量
04/26 19:05現在0（mm/h） 04/26 20:05予測0（mm/h）
東京都 東京 の天気
今日 04月26日(金) 明日 04月27日(土)
晴のち曇  晴のち曇 : 最高 27 ℃ 最低  - ℃ 曇一時雨  曇一時雨 : 最高 24 ℃ 最低 17 ℃
　関東甲信地方は、高気圧に覆われています。 　東京地方は、晴れや曇りとなっています。また、黄砂が観測されています。 　２６日は、高気圧に覆われますが、気圧の谷や湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、晴れますが、夕方からは曇りとなるでしょう。また、引き続き黄砂が観測される可能性があります。 　２７日は、低気圧や湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、曇りで昼前は一時雨となるでしょう。 【関東甲信地方】 　関東甲信地方は、晴れや曇りとなっています。 　また、黄砂が観測された所があります。 　２６日は、高気圧に覆われますが、気圧の谷や湿った空気の影響を受ける見込みです。このため、晴れのち曇りでしょう。また、黄砂が観測される可能性があります。 　２７日は、低気圧や湿った空気の影響を受けますが、次第に高気圧に覆われる見込みです。このため、曇りや雨で、昼前から晴れる所があるでしょう。 　関東地方と伊豆諸島の海上では、２６日から２７日にかけて、うねりを伴い波がやや高いでしょう。
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同名法人の情報あり

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日本化学工業株式会社の株式上場データ

マーケット 東証一部
業種 化学
証券コード4092
上場年月日1949年5月
決算月3月末日

日本化学工業株式会社の法人詳細データ

代表者名 代表取締役社長　　棚橋　洋太
法人名ふりがな にほんかがくこうぎょう
資本金 5,757,000,000円
従業員数 624人
企業規模 男性：564人  女性：60人
事業概要 クロム製品、シリカ製品、燐製品、、バリウム製品、電子セラミック材料、電池材料、回路材料、半導体材料、量子ドット材料、各種ホスフィン誘導体、農薬原体、などの製造販売・輸出
企業ホームページ  https://www.nippon-chem.co.jp/

日本化学工業株式会社の大株主の状況

企業名もしくは出資者 出資比率（％）
株式会社日本カストディ銀行 14.31
日本マスタートラスト 信託銀行株式会社 9.61
日本化学工業取引先持株会 8.9
明治安田生命保険相互会社 （常任代理人　株式会社日本カストディ銀行） 4.01
小西安株式会社 2.07
三菱ＵＦＪ信託銀行株式会社 （常任代理人　日本マスタートラスト信託銀行株式会社） 1.7
株式会社三井住友銀行 1.56
日本化学工業従業員持株会 1.54
NORTHERN TRUST GLOBAL SERVICES SE, LUXEMBOURG RE CLIENTS NON-TREATY ACCOUNT （常任代理人　香港上海銀行東京支店） 1.4
小原化工株式会社 0.95

日本化学工業株式会社の経営指標の推移

 当期 第165期（自　2022年４月１日　至　2023年３月31日）
当期（円）
売上高 35,934,000,000
経常利益又は経常損失（△） 1,209,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 732,000,000
資本金 5,757,000,000
純資産 40,295,000,000
総資産 70,808,000,000
従業員数 624 人
1期前（円）
売上高 33,652,000,000
経常利益又は経常損失（△） 6,077,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 6,328,000,000
資本金 5,757,000,000
純資産 40,359,000,000
総資産 68,844,000,000
従業員数 609 人
2期前（円）
売上高 29,537,000,000
経常利益又は経常損失（△） 2,575,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 2,067,000,000
資本金 5,757,000,000
純資産 35,039,000,000
総資産 65,035,000,000
従業員数 596 人
3期前（円）
売上高 31,183,000,000
経常利益又は経常損失（△） 2,354,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 1,789,000,000
資本金 5,757,000,000
純資産 32,613,000,000
総資産 61,873,000,000
従業員数 577 人
4期前（円）
売上高 30,746,000,000
経常利益又は経常損失（△） 2,587,000,000
当期純利益又は当期純損失（△） 1,860,000,000
資本金 5,757,000,000
純資産 31,717,000,000
総資産 61,021,000,000
従業員数 555 人

日本化学工業株式会社の職場データ

平均勤続年数（男女） 男性：20年 女性：15年
労働者に占める女性労働者の割合 13%

日本化学工業株式会社の特許情報  157件

出願年月日 出願番号 特許分類 タイトル
2022/3/30 2022055063 特許 乾燥装置及び乾燥方法
2022/1/14 2022048463 特許 印刷装置
2021/10/29 2021177454 特許 改質リチウムニッケルマンガンコバルト複合酸化物粒子の製造方法
2021/9/29 2021120827 商標 ＣＥＬＬＣＥＲＡＭ
2021/9/29 2021120828 商標 セルセラム
2021/6/8 2021070492 商標 ＨＩＳＨＩＣＯＬＩＮ
2021/5/12 2021081138 特許 導電性粒子、それを用いた導電性材料及び接続構造体
2021/5/12 2021081137 特許 導電性粒子、それを用いた導電性材料及び接続構造体
2021/1/19 2021006519 特許 導電性粒子の製造方法、及び導電性粒子
2020/11/19 2020192358 特許 シュウ酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
2020/11/19 2020192357 特許 シュウ酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
2020/6/25 2020078572 商標 キュアショット
2020/6/25 2020078570 商標 キュアライト
2020/6/25 2020078571 商標 Ｃｕｒｅｌｉｇｈｔ
2020/6/25 2020078573 商標 フォトタクト
2020/6/12 2020102068 特許 シュウ酸バリウムチタニル、その製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
2020/6/2 2020096311 特許 リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
2020/5/28 2020093649 特許 リン酸ゲルマニウムリチウムの製造方法
2020/3/4 2020036693 特許 リチウム二次電池用正極活物質の製造方法
2020/3/4 2021115278 特許 リチウム二次電池用正極活物質及びリチウム二次電池
2019/12/18 2019228647 特許 改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
2019/11/1 2020556042 特許 改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
2019/10/30 2020556006 特許 被覆粒子及びそれを含む導電性材料、並びに被覆粒子の製造方法
2019/10/25 2019194347 特許 導電性接着剤、それを用いた接着構造体及び電子部品
2019/7/24 2020536440 特許 ピロリン酸コバルトリチウムの製造方法及びピロリン酸コバルトリチウム炭素複合体の製造方法
2019/7/17 2020533407 特許 二酸化バナジウムの製造方法
2019/7/2 2019123388 特許 リン酸チタンリチウムの製造方法
2019/6/27 2020530097 特許 リン酸コバルトリチウムの製造方法及びリン酸コバルトリチウム炭素複合体の製造方法
2019/6/26 2020530092 特許 被覆粒子
2019/6/24 2019116410 特許 光学活性ビスホスフィノメタン及びその製造方法、並びに遷移金属錯体及び不斉触媒
2019/4/16 2019077974 特許 カルボン酸インジウムの製造方法
2019/4/5 2019072470 特許 ビアリールホスフィンの製造方法
2019/3/20 2020510789 特許 ＩｎＰ量子ドットの製造方法
2019/3/8 2019035212 商標 フィルアクト
2019/3/8 2019035213 商標 ＦＩＬＬＡＣＴ
2019/3/8 2019035214 商標 ダイナフィード
2019/3/8 2019035215 商標 ダイナキック
2019/3/1 2019552646 特許 ２，３－ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び不斉触媒並びに有機ホウ素化合物の製造方法
2019/1/18 2019006707 特許 リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
2018/12/4 2018227506 特許 ホスフィノベンゼンボラン誘導体の製造方法、１，２－ビス（ジアルキルホスフィノ）ベンゼン誘導体の製造方法及び遷移金属錯体
2018/12/4 2020206526 特許 ホスフィノベンゼンボラン誘導体の製造方法、１，２－ビス（ジアルキルホスフィノ）ベンゼン誘導体の製造方法及び遷移金属錯体
2018/11/16 2018215937 特許 被覆粒子の製造方法
2018/11/15 2019560879 特許 改質ペロブスカイト型複合酸化物の製造方法
2018/11/5 2018207953 特許 負熱膨張材、その製造方法及び複合材料
2018/10/15 2018194173 特許 リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
2018/10/15 2018194172 特許 リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
2018/10/10 2019507963 特許 改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
2018/10/3 2018188266 特許 ホスフィン遷移金属錯体、その製造方法及び抗がん剤
2018/9/28 2019507354 特許 光学活性な２，３－ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び有機ホウ素化合物の製造方法
2018/8/27 2018158671 特許 被覆粒子
2018/8/16 2018104115 商標 フォステクト
2018/8/16 2018104116 商標 Ｐｈｏｓｔｅｃｔ
2018/8/3 2018099585 商標 Ｓｕｒｆｅｃｔ
2018/7/31 2018143543 特許 二酸化バナジウムの製造方法
2018/6/15 2019529009 特許 光学活性な２，３－ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及び光学活性なホスフィン遷移金属錯体の製造方法
2018/6/11 2018111111 特許 リン酸バナジウムリチウムの製造方法
2018/5/24 2018100047 特許 乾燥水電解水素ガスの製造方法及び吸収液
2018/5/16 2018094610 特許 光焼結型組成物及びそれを用いた導電膜の形成方法
2018/4/25 2019517556 特許 被覆粒子及びその製造方法
2018/4/25 2018544951 特許 被覆粒子及びその製造方法
2017/12/7 2017235032 特許 ペロブスカイト型チタン酸バリウム粉末の製造方法
2017/11/17 2017222217 特許 シリコチタネート成形体の製造方法
2017/11/2 2018121209 特許 光焼結型組成物及びそれを用いた導電膜の形成方法
2017/11/2 2018551567 特許 亜酸化銅粒子の製造方法
2017/9/19 2018524857 特許 シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
2017/9/19 2018153215 特許 シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
2017/8/8 2017153422 特許 ２，３－ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及びホスフィン遷移金属錯体の製造方法
2017/7/5 2017131809 特許 シリコチタネート成形体及びその製造方法、シリコチタネート成形体を含むセシウム又はストロンチウムの吸着剤、及び当該吸着剤を用いる放射性廃液の除染方法
2017/6/27 2017086727 商標 キノホス
2017/6/27 2017086726 商標 ＱｕｉｎｏＰｈｏｓ
2017/6/22 2019111207 特許 放射性廃棄物固化体の製造方法
2017/6/22 2018524151 特許 放射性廃棄物固化体の製造方法
2017/6/16 2017118244 特許 圧電体材料用フィラー、複合圧電体材料及び複合圧電体素子
2017/6/16 2017118243 特許 ニオブ酸アルカリ化合物の製造方法
2017/6/16 2017118245 特許 複合圧電体材料、複合圧電体素子及び複合圧電体材料用フィラー
2017/3/29 2018509391 特許 金属イオン吸着剤
2017/3/10 2017032026 商標 サーモフィット
2017/3/10 2017032029 商標 Ｃｅｒａｆｉｔ
2017/3/10 2017032027 商標 サーテクト
2017/3/10 2017032028 商標 セラフィット
2017/2/15 2018500134 特許 セシウム又は／及びストロンチウム吸着剤
2017/1/25 2017011201 特許 重金属イオン吸着剤
2016/12/28 2016255249 特許 リン酸バナジウムリチウムの製造方法
2016/12/19 2017545411 特許 結晶性シリコチタネートを含む吸着剤の製造方法
2016/12/6 2017555061 特許 放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法
2016/12/1 2016234552 特許 非晶質の水酸化鉄（ＩＩＩ）を含有する吸着剤及びその製造方法
2016/11/28 2016230578 特許 コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材
2016/11/28 2016230579 特許 コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材
2016/11/17 2016224147 特許 ビスマス鉄酸化物の製造方法
2016/11/17 2016224148 特許 ビスマス鉄酸化物の製造方法
2016/11/14 2016221323 特許 複合チタン酸化物の製造方法
2016/11/8 2017553734 特許 電気化学発光セル、電気化学発光セルの発光層形成用組成物、及び電気化学発光セルの発光層用イオン性化合物
2016/10/26 2016210078 特許 結晶性シリコチタネートの製造方法
2016/9/30 2016192427 特許 負熱膨張材及びそれを含む複合材料
2016/9/30 2016193026 特許 リン酸タングステン酸ジルコニウムの製造方法
2016/9/6 2016174021 特許 コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材、及びそれを用いた有機化合物吸着剤
2016/7/20 2016142758 特許 電気化学発光セルの発光層用添加剤、電気化学発光セルの発光層形成用組成物及び電気化学発光セル
2016/5/18 2016099805 特許 硫化リチウムの製造方法及び無機固体電解質の製造方法
2016/5/9 2016093563 特許 ビスホスフィン－ビピリジン配位子含有共役ポリマー及びその製造方法
2016/5/9 2016093564 特許 光学活性基を有する置換ポリアセチレン及びその製造方法
2016/4/4 2016074891 特許 セシウム及び／又はストロンチウム吸着剤の製造方法
2016/3/9 2016045650 特許 コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
2016/3/9 2016045651 特許 コンポジット粒子およびその製造方法
2016/3/9 2016045652 特許 コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
2016/3/8 2016044066 特許 熱電変換材料、熱電変換素子及び熱電変換モジュール
2016/3/3 2016040691 特許 油水分離材および油水分離方法
2016/3/3 2016040688 特許 コンポジット粒子、その製造方法、ゲル化剤及び油水分離材
2016/3/3 2016040689 特許 コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
2016/3/1 2016038713 特許 誘電体セラミック材料、その製造方法及び複合誘電体材料
2016/1/30 2016016744 特許 二酸化バナジウムの製造方法
2016/1/21 2016006063 商標 日本化学工業株式会社
2015/12/24 2015252082 特許 放射性アンチモン、放射性ヨウ素及び放射性ルテニウムの吸着剤、当該吸着剤を用いた放射性廃液の処理方法
2015/12/10 2015240941 特許 放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法
2015/11/25 2015230100 特許 非水電池
2015/10/9 2015200719 特許 チタン酸バリウム粉末の製造方法
2015/10/9 2015200720 特許 チタン酸バリウム粉末の製造方法
2015/10/6 2016553105 特許 吸着材
2015/9/28 2016520706 特許 ポリエステル樹脂組成物
2015/9/23 2017516135 特許 キラルγ－第二級アミンアルコールの製造方法
2015/9/3 2015174163 特許 放射性物質吸着シート
2015/8/18 2015161416 特許 ストロンチウム吸着シート
2015/7/30 2015151226 特許 吸着剤及びその製造方法
2015/7/30 2015151227 特許 吸着剤及びその製造方法
2015/5/22 2015104178 特許 硫化リチウムの製造方法及び無機固体電解質の製造方法
2015/4/16 2015083820 特許 フッ化クロム（ＩＩＩ）水和物及びその製造方法
2015/3/18 2015054775 特許 熱電変換材料の製造方法
2015/3/3 2015041623 特許 二酸化バナジウムの製造方法
2015/2/18 2016504124 特許 アルカリ金属の９チタン酸塩の製造方法
2015/1/26 2015011915 特許 吸着剤及びその製造方法
2014/11/5 2014093068 商標 ＰＵＲＥＣＥＲＡＭ
2014/10/2 2014204045 特許 結晶性シリコチタネートの製造方法
2014/10/2 2014204044 特許 結晶性シリコチタネートの製造方法
2014/9/5 2014180790 特許 ヨウ素酸イオン吸着剤及びその製造方法
2014/9/5 2014180789 特許 ヨウ素酸イオン吸着剤及びその製造方法
2014/7/25 2014152398 特許 α－アルミン酸リチウムの製造方法
2014/7/2 2014055226 商標 §Ｔ＼ＥＳ
2014/5/30 2014111939 特許 バリウム化合物を含む粉末状組成物
2014/4/9 2014079958 特許 亜クロム酸ナトリウムの製造方法
2014/3/27 2014066149 特許 吸着材
2014/3/27 2015022800 特許 結晶性シリコチタネートの製造方法
2014/2/26 2014035199 特許 カチオン重合性樹脂組成物、その製造方法及び接着構造体
2014/2/10 2014536017 特許 ピストンリング及びその製造方法
2014/2/10 2015500237 特許 三価クロムめっき液
2014/1/28 2014013268 特許 α－アルミン酸リチウムの製造方法
2014/1/15 2017214633 特許 被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
2014/1/15 2017140665 特許 被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
2014/1/15 2014005305 特許 被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
2013/12/20 2013263742 特許 ＳｎＳ２
2013/11/20 2013239682 特許 リチウム二次電池用正極活物質、リチウム二次電池用正極活物質の製造方法及びリチウム二次電池
2013/10/24 2013221602 特許 炭酸クロム（ＩＩＩ）及びその製造方法
2013/10/10 2013079328 商標 Ｂｒｉｇｈｔ
2013/9/5 2013183913 特許 電子部品の実装方法、この実装方法を用いてＩＣタグを製造する方法、この実装方法を用いて発光電子部品を製造する方法、及びこの実装方法に用いる装置
2013/6/11 2013044531 商標 ブライト
2013/4/16 2014522461 特許 リチウムイオン二次電池
2013/3/1 2013040891 特許 硫化リチウムの製造方法及び無機固体電解質の製造方法
2013/2/25 2013034342 特許 置換アセチレン重合開始剤及び置換ポリアセチレンの製造方法
2013/1/11 2013004075 特許 二酸化チタン溶液の製造方法及びペロブスカイト型チタン複合酸化物の製造方法

日本化学工業株式会社の政府届出情報

  • 経済産業省
    アルコール事業
  • 経済産業省
    ＰＲＴＲ：化学工業
近隣（東京都江東区）の法人情報
  • ＥＳＴＵＡＲＹ合同会社
    ＥＳＴＵＡＲＹ合同会社の所在地は東京都江東区千石３丁目３番３号で、2024-04-25に法人番号：4010603010795が指定されました。
  • 株式会社Ｓｏｃｉａｌ‐Ｉｍｐａｃｔ
    株式会社Ｓｏｃｉａｌ‐Ｉｍｐａｃｔの所在地は東京都江東区東陽３丁目２３番２６号東陽町コーポラス３Ｆ２０号室で、2021-12-14に法人番号：2011101097170が指定されました。
  • 株式会社アイル・アセット・ホールディングス
    株式会社アイル・アセット・ホールディングスの所在地は東京都江東区東陽２丁目２番２０号で、2019-09-05に法人番号：2010601056058が指定されました。
  • レオ合同会社
    レオ合同会社の所在地は東京都江東区北砂２丁目８番５号ルナパレス２０２で、2019-03-13に法人番号：6010603007716が指定されました。
  • 有限会社アトリエ・エム設計室
    有限会社アトリエ・エム設計室の所在地は東京都江東区越中島１丁目３番１２－８０９号で、2015-10-05に法人番号：9010602019073が指定されました。
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  • 株式会社クリエート
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    株式会社リードフォースの所在地は東京都江東区有明２丁目１番１－２４１０号で、2024-04-24に法人番号：9010601065060が指定されました。
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